[发明专利]一种锂硫电池用高性能复合隔膜及其制备方法

权利要求书

1.一种锂硫电池用复合隔膜，其特征在于：所述复合隔膜以聚丙烯隔膜为基底膜，表面构建掺杂型 LLZO/C 纳米镀层；其制备方法为采用磁控溅射双靶共溅技术，在聚丙烯隔膜表面直流溅射纯碳材料和射频溅射锆酸镧锂。

2.根据权利要求 1 所述的锂硫电池用复合隔膜，其特征在于：所述掺杂型LLZO/C 纳米镀层仅面向电池正极侧放置。

3.一种权利要求1或2所述的锂硫电池用复合隔膜的制备方法，其特征在于：采用磁控溅射双靶共溅技术，在聚丙烯隔膜表面直流溅射纯碳材料和射频溅射锆酸镧锂。

4.根据权利要求 3 所述的锂硫电池用复合隔膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

（1）将碳靶和锆酸镧锂靶以及聚丙烯隔膜放入磁控溅射真空室内，抽真空以达到本底真空度后进行磁控溅射；

（2）将溅射完后的复合隔膜在 60℃下真空干燥，以去除水分；

（3）使用手动冲片机将改性隔膜压成直径为 18mm 的圆片，得到锂硫电池用多功能复合隔膜。

5.根据权利要求 4 所述的锂硫电池用复合隔膜的制备方法，其特征在于：所述直流溅射的直流源功率为 80W，射频溅射的射频源功率为 30W。

6.根据权利要求 4 所述的锂硫电池用复合隔膜的制备方法，其特征在于：所述磁控溅射的条件为本底真空度为 6.6×10^-4 ，溅射压强为 0.9Pa，溅射时间为20-40min。