[发明专利]聚苯乙烯系脱模膜及多层膜

说明书

本发明提供一种更廉价的具有粗糙面的聚苯乙烯系膜及多层膜。一种聚苯乙烯系膜，其含有间规聚苯乙烯系树脂及球状填料，经双轴取向，光泽度为30％以下、表面粗糙度(Ra)为0.8μm以上、拉伸伸长率为15％以上。优选为所述球状填料为非晶质二氧化硅，更优选为所述球状填料为熔融二氧化硅。

技术领域

本发明是涉及一种具有粗糙面的双轴取向间规聚苯乙烯系膜。另外，本发明是涉及一种在最外层包含具有粗糙面的双轴取向间规聚苯乙烯系树脂层的多层膜。

背景技术

间规聚苯乙烯(Syndiotactic polystyrene，SPS)系树脂的耐热性或耐化学品性优异等，因此作为成形品或膜而在各种领域中用途得以扩大。作为这种用途之一，研究有：在利用表面张力低、润湿性低的SPS系树脂的特性来制造印刷基板、陶瓷电子零件、半导体封装体、其他各种树脂成形品时，在用以防止成形模具或成形辊与被成形材料的融合的脱模膜中使用双轴取向SPS系膜。专利文献1～专利文献3中记载有使用SPS系树脂的单层或多层的脱模膜。

另外，在所述脱模膜中，有时为了对被成形品的表面赋予无光泽感的外观，而将脱模膜粗糙化，并将其表面凹凸转印至被成形品。专利文献4及专利文献5中记载有：一边对双轴取向SPS系膜进行加热·加压，一边使其通过表面为无光泽感花纹的辊与其他辊之间，由此将辊表面的凹凸转印至膜表面，从而将膜粗糙化。专利文献6中记载有一种SPS系膜：通过将SPS系树脂与聚碳酸酯熔融·混练，加以膜化，进行双轴延伸，加以粗糙化而成。专利文献7中记载有一种SPS系膜：通过将SPS系树脂及苯乙烯系热塑性弹性体熔融·混练，加以膜化，进行双轴延伸，加以粗糙化而成。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2001-168117号公报

[专利文献2]日本专利特开2001-310428号公报

[专利文献3]日本专利特开2014-226785号公报

[专利文献4]日本专利特开2013-216779号公报

[专利文献5]日本专利特开2013-215989号公报

[专利文献6]日本专利特开2016-000467号公报

[专利文献7]日本专利特开2011-000468号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

如专利文献4及专利文献5中所记载的通过辊转印而进行粗糙化的方法中，需要膜的取向工序与另外的粗糙化工序，因此在制造成本的方面有改善的余地。

相对于此，专利文献6及专利文献7中所记载的将SPS与其他树脂混合并进行双轴延伸的方法中，可削减制造成本。但是，无法获得辊转印方式程度大的表面凹凸，因此即便为与辊转印方式同等的光泽度，质感也微妙地不同，一部分用户要求调整由表面凹凸增大所带来的质感。

另外，本发明人等人以前尝试了通过调配填料来对SPS系膜表面进行粗糙化。但是，此时，通过调配填料而膜强度显著降低，因此填料的添加量受到限制，难以增强膜的无光泽感的程度(专利文献4的段落0009)。

本发明是考虑所述情况而成，其目的在于提供一种表面经粗糙化的双轴取向SPS系膜即表面凹凸大且更廉价的膜。

[解决问题的技术手段]

为了解决所述问题，本发明中，通过将球状填料调配于SPS系树脂中并进行双轴取向，将表面粗糙化。

具体而言，本发明的聚苯乙烯系膜含有间规聚苯乙烯系树脂及球状填料，经双轴取向，光泽度为30％以下、表面粗糙度(Ra)为0.8μm以上、拉伸伸长率为15％以上。