[发明专利]触摸屏的制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种触摸屏的制造方法，其特征在于，包括：

提供一基板，所述基板包括显示区和位于所述显示区周围的非显示区；

在所述基板上依次形成第一透明导电层和金属膜层；

在所述金属膜层上形成第一光阻图案层，所述第一光阻图案层的图案对应所述非显示区的金属走线图案；

蚀刻所述金属膜层以在所述非显示区形成所述金属走线；

在所述显示区的基板上形成第一透明导电图案；

在所述第一透明导电图案和所述金属走线上形成保护层；

在所述显示区的所述保护层上形成第二透明导电层。

2.根据权利要求1所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，所述第一光阻图案层设置在所述非显示区上或设置在所述显示区和所述非显示区上。

3.根据权利要求2所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，当所述第一光阻图案层设置在所述非显示区上时，蚀刻所述金属膜层和所述第一透明导电层。

4.根据权利要求3所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，蚀刻所述金属膜层和所述第一透明导电层，包括：

通过所述第一光阻图案层蚀刻所述金属膜层以形成所述金属走线；

在所述显示区的所述第一透明导电层上形成第二光阻图案层，蚀刻所述第一透明导电层以形成所述第一透明导电图案和位于所述非显示区的透明导电图案。

5.根据权利要求3所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，同时蚀刻所述金属膜层和所述第一透明导电层，以形成所述金属走线和位于所述非显示区的透明导电图案。

6.根据权利要求5所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，

在所述基板上形成第三透明导电层；

在所述显示区的所述第三透明导电层上形成第三光阻图案层，蚀刻所述第三透明导电层以形成第二透明导电图案；

减薄所述第二透明导电图案以形成所述第一透明导电图案。

7.根据权利要求6所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，所述第三透明导电层的厚度大于所述金属膜层和所述第一透明导电层的总厚度。

8.根据权利要求2所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，当所述第一光阻图案层设置在所述显示区和所述非显示区上时，对所述金属膜层蚀刻形成所述金属走线和位于所述显示区的金属膜图案。

9.根据权利要求8所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，对第一透明导电层进行蚀刻，形成所述第一透明导电图案和位于所述非显示区的透明导电图案，并去除所述金属膜图案。

10.根据权利要求9所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，去除所述金属膜图案包括：

在所述金属走线上形成光阻层以保护所述金属走线，蚀刻去除所述金属膜图案。

11.根据权利要求1-10任一项所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，所述基板为COP基板、PI基板和玻璃基板中的一种。

12.根据权利要求1-10任一项所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，所述第一透明导电层为ITO、FZO、AZO、FTO、GZO、IMO中的任意一种。

13.根据权利要求6或7所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，所述第二透明导电层为ITO、FZO、AZO、FTO、GZO、IMO中的任意一种。

14.根据权利要求1-10任一项所述的触摸屏的制造方法，其特征在于，所述金属走线为柔性金属材料。

15.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求1-14任一项所述的触摸屏的制造方法制造的触摸屏。