[发明专利]应用于深度传感器的静电保护电路和深度传感器有效

专利信息
申请号: 201711091020.4 申请日: 2017-11-08
公开(公告)号: CN107994558B 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: 徐渊;谢刚;潘安;王育斌;黄志宇;刘诗琪 申请(专利权)人: 深圳技术大学(筹)
主分类号: H02H9/04 分类号: H02H9/04;H02H9/02
代理公司: 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 代理人: 林俭良;冯小梅
地址: 518118 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 应用于 深度 传感器 静电 保护 电路
【说明书】:

发明涉及应用于深度传感器的静电保护电路和深度传感器,该静电保护电路连接在深度传感器的输入/输出焊盘与内部电路之间,输入/输出焊盘用于接收或输出信号;内部电路通过输入/输出焊盘接收或输出信号;静电保护电路包括:第一级静电泄放电路,连接在输入/输出焊盘与接地端之间,在输入/输出焊盘受静电袭击时,将输入/输出焊盘产生的静电电流泄放到接地端;限流电路,连接在第一级静电泄放电路与内部电路之间,对静电电流进行限流;第二级静电泄放电路,连接在限流电路与内部电路之间,将流经限流电路的静电电流进行二次泄放。本方案通过设置双级静电泄放电路,有效保护深度传感器内部电路,且电路结构简单、成本低、可靠性好。

技术领域

本发明涉及深度传感器的领域,更具体地说,涉及一种应用于深度传感器的静电保护电路和深度传感器。

背景技术

现代集成电路(IC)以及射频集成电路能够承受的最大电压仅为几十伏甚至更低,因此在集成电路的整个生命周期中,从制造、封装、测试、运输到应用,都时刻面临着ESD(静电泄放)事件的冲击,ESD是所有IC失效中最为普遍的因素。高密度集成电路器件具有线间距短、线细、集成度高、运算速度快、低功率和输入阻抗高的特点,导致这类器件对静电较敏感,称之为静电敏感器件。随着IC芯片集成度和工艺性能提高,器件的最小特征尺寸不断减小,IC芯片对于ESD引起的失效更加敏感。

ESD静电因为时间短,能量大,往往对电路产生瞬间的冲击,易导致电路中各器件受到损坏,因此要求ESD防护结构不但要有很好的电流泄放能力,而且对于ESD静电有较快的反应速度。

避免TOF芯片受到静电而击穿损毁方法是在IC上增加有效的ESD保护电路,当IC遭受ESD冲击时,保护电路能够迅速开启,把ESD大电流旁路,使其不经过核心电路,并将电压钳位在较低的水平。

在半导体工艺及技术不断发展的今天,ESD防护研究领域仍有许多机遇和挑战。主要体现在以下四个方面:

1)纳米工艺下的ESD防护:随着工艺的不断发展,纳米集成电路面对ESD更加脆弱,这主要由超薄的栅氧化层、极窄的沟道长度、更浅的PN结深度、更薄的金属层厚度、更密的晶体管等工艺因素造成的。此外,High.K介质的使用及FinFET等新型结构的普及,也进一步要求ESD防护器件做出相应的调整。

2)射频电路的ESD防护:由于射频电路的工作频率越来越高,使得其对ESD器件引入的寄生参数,尤其是寄生电容十分敏感。因此需要引入ESD防护的同时,尽量不影响射频电路的性能。

3)高压工艺下的ESD防护:ESD防护设计不仅需要在高电压大电流的工作条件下具备充分的可靠性,同时要有足够的抗干扰能力,也就是抗栓锁能力。

4)特殊工艺的ESD防护:随着SOI(Silicon on Insulator)工艺等新工艺,石墨烯等新材料,以及微电子机械系统(Micro.electromechanical Systems,MEMS)的使用,其ESD可靠性相关的研究还较为缺乏,不能真正实现静电保护,也不能使产品得到有效的保护。因此,上述新工艺的ESD防护设计需要额外考虑工艺特点,提出完全不同的ESD防护方案。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于,针对现有技术的上述缺陷,提供一种应用于深度传感器的静电保护电路和深度传感器。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:构造一种应用于深度传感器的静电保护电路,所述静电保护电路连接在深度传感器的输入/输出焊盘与内部电路之间,其中,

所述输入/输出焊盘用于接收或输出信号;

所述内部电路通过所述输入/输出焊盘接收或输出信号;

所述静电保护电路包括:

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