[发明专利]一种石墨薄片的制备装置在审
| 申请号： | 201711089117.1 | 申请日： | 2017-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN109748272A | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 金闯 | 申请（专利权）人： | 太仓斯迪克新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/205 | 分类号： | C01B32/205 |
| 代理公司： | 苏州凯谦巨邦专利代理事务所(普通合伙) 32303 | 代理人： | 丁剑 |
| 地址： | 215400 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石墨薄片 反应腔 制备装置 沉积 反应通道 基板 应用化学 气相沉积法 沉降 制程 出口 生产 | ||
【权利要求书】：
1.一种石墨薄片的制备装置，适用于化学沉降法制备石墨薄片，其特征在于，包括一反应腔，所述反应腔具有一入口及一出口，所述入口及出口可分别设置于所述反应腔的相对侧以在所述反应腔内形成一反应通道；所述反应通道内设置有一便于石墨薄片自然沉积其上的基板。
2.如权利要求1所述的制备装置，其特征在于，所述反应腔靠近出口一侧，设置有一用于盛装催化剂的坩埚。
3.如权利要求2所述的制备装置，其特征在于，所述坩埚与所述基板间的距离为5～80cm。
4.如权利要求2至3所述的制备装置，其特征在于，所述坩埚为氧化铝坩埚。
5.如权利要求2或3所述的制备装置，其特征在于，所述基板材质为绝缘材料、金属或半导体材料中的一种或多种。
6.如权利要求2或3所述的制备装置，其特征在于，所述催化剂为镍、钴或铁。
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