[发明专利]一种人参苗的水培方法

权利要求书

1.一种人参苗的水培方法，其特征在于，包括如下步骤：

将春化处理后的人参种子催化出芽；

将长出胚根的种子置于设置有双层KT板的培养盆的定植孔位置，使胚根与水接触进行初次培育；所述双层KT板包括依次设置的无纺布、上层KT板和下层KT板，所述上层KT板与下层KT板均设置定植孔，所述上层KT板的定植孔与下层KT板的定植孔相通；

待人参苗培育至五片复叶小苗后，采用稀释的霍格兰营养液对其进行育苗。

2.根据权利要求1所述的水培方法，其特征在于，所述上层KT板的定植孔的孔径为0.8～1.2cm，孔间距为0.8～1.2cm。

3.根据权利要求1所述的水培方法，其特征在于，所述下层KT板的定植孔的孔径为0.6～1.0cm。

4.根据权利要求1所述的水培方法，其特征在于，所述上层KT板的定植孔的孔径比下层KT板的定植孔的孔径长0.2cm。

5.根据权利要求1所述的水培方法，其特征在于，所述初次培育的条件为：温度为24℃～28℃、湿度为60％～80％，光照为3500～4500lux，光照时间为15～17h/天，每2小时通气20～40分钟，培育时间为9～10天。

6.根据权利要求1所述的水培方法，其特征在于，所述采用稀释的霍格兰营养液对其进行育苗为：采用稀释倍数为5倍的霍格兰营养液进行育苗，每三天更换一次营养液，第一次更换为稀释倍数为4倍的霍格兰营养液，第二次及以后更换为稀释倍数为3倍的霍格兰营养液。

7.根据权利要求1所述的水培方法，其特征在于，所述春化处理为将种子在4℃条件下放置18～20天。

8.根据权利要求1所述的水培方法，其特征在于，所述育苗的条件为：温度为24℃～28℃、湿度为60％～80％，光照为3500～4500lux，光照时间为15～17h/天，每2小时通气20～40分钟。

9.根据权利要求1所述的水培方法，其特征在于，所述春化处理与催化出芽之间还包括消毒处理。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的水培方法，其特征在于，所述催化出芽的条件为：温度为24℃～28℃，湿度为60％～80％。