[发明专利]抗眩及抗反射元件有效

专利信息
申请号: 201711065609.7 申请日: 2017-11-02
公开(公告)号: CN107728237B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 董冠佑;廖淑雯;高望硕 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B5/02
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥;孟超
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 反射 元件
【权利要求书】:

1.一种抗眩及抗反射元件,配置于一显示面板的一显示面上,其特征在于,该抗眩及抗反射元件包括:

一基材,包括多个微凸起,其中该些微凸起相连接以形成一粗糙面,该粗糙面具有离该显示面最远的一第一点及离该显示面最近的一第二点,该第一点与该第二点在该显示面的一法线方向上的距离为HD,1μm≦HD≦20μm,每一该微凸起在该显示面上的垂直投影具有一第一轴向长度R1及一第二轴向长度R2,1μm≦R1≦20μm,1μm≦R2≦20μm;以及

一抗反射膜,配置于该粗糙面上,其中该抗反射膜在该粗糙面的一法线方向上具有一厚度T,T/HD≦0.1;

该粗糙面包括多个子表面;

每一该子表面的一法线方向与该显示面的该法线方向夹有一角度θ,具有该角度θ的多个子表面的多个垂直投影面积的和为bθ,该粗糙面的垂直投影面积为a;在角度θ大于或等于0°且小于或等于90°的范围内,bθ/a具有一最大值,该最大值所对应的角度θ为θmax,5°≦θmax≦35°。

2.根据权利要求1所述的抗眩及抗反射元件,其特征在于,15°≦θmax≦35°。

3.一种抗眩及抗反射元件,配置于一显示面板的一显示面上,其特征在于,该抗眩及抗反射元件包括:

一基材,包括多个微凸起,其中该些微凸起相连接以形成一粗糙面,该粗糙面具有离该显示面最远的一第一点及离该显示面最近的一第二点,该第一点与该第二点在该显示面的一法线方向上的距离为HD,1μm≦HD≦20μm,每一该微凸起在该显示面上的垂直投影具有一第一轴向长度R1及一第二轴向长度R2,1μm≦R1≦20μm,1μm≦R2≦20μm;以及

一抗反射膜,配置于该粗糙面上,其中该抗反射膜在该粗糙面的一法线方向上具有一厚度T,T/HD≦0.1;

该粗糙面包括多个子表面;

每一该子表面的一法线方向与该显示面的该法线方向夹有一角度θ,θ介于0度至10度的多个子表面的多个垂直投影面积的和为a1,该粗糙面的垂直投影面积为a,7.19%≦a1/a≦12.34%。

4.一种抗眩及抗反射元件,配置于一显示面板的一显示面上,其特征在于,该抗眩及抗反射元件包括:

一基材,包括多个微凸起,其中该些微凸起相连接以形成一粗糙面,该粗糙面具有离该显示面最远的一第一点及离该显示面最近的一第二点,该第一点与该第二点在该显示面的一法线方向上的距离为HD,1μm≦HD≦20μm,每一该微凸起在该显示面上的垂直投影具有一第一轴向长度R1及一第二轴向长度R2,1μm≦R1≦20μm,1μm≦R2≦20μm;以及

一抗反射膜,配置于该粗糙面上,其中该抗反射膜在该粗糙面的一法线方向上具有一厚度T,T/HD≦0.1;

该粗糙面包括多个子表面;

每一该子表面的一法线方向与该显示面的该法线方向夹有一角度θ,θ介于10度至20度的多个子表面的多个垂直投影面积的和为a2,该粗糙面的垂直投影面积为a,10.75%≦a2/a≦19.56%。

5.一种抗眩及抗反射元件,配置于一显示面板的一显示面上,其特征在于,该抗眩及抗反射元件包括:

一基材,包括多个微凸起,其中该些微凸起相连接以形成一粗糙面,该粗糙面具有离该显示面最远的一第一点及离该显示面最近的一第二点,该第一点与该第二点在该显示面的一法线方向上的距离为HD,1μm≦HD≦20μm,每一该微凸起在该显示面上的垂直投影具有一第一轴向长度R1及一第二轴向长度R2,1μm≦R1≦20μm,1μm≦R2≦20μm;以及

一抗反射膜,配置于该粗糙面上,其中该抗反射膜在该粗糙面的一法线方向上具有一厚度T,T/HD≦0.1;

该粗糙面包括多个子表面;

每一该子表面的一法线方向与该显示面的该法线方向夹有一角度θ,θ介于20度至30度的多个子表面的多个垂直投影面积的和为a3,该粗糙面的垂直投影面积为a,而6.92%≦a3/a≦28.49%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711065609.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top