[发明专利]用于线性涂布机中的清洗液过滤装置、方法及线性涂布机

说明书

本发明实施例公开了一种用于线性涂布机中的清洗液过滤装置，包括：容器本体，其一侧通过第一管道与线性涂布机中盛放清洗液的清洗槽的底部连通；设置于所述容器本体内的至少一层过滤膜片，用于过滤所述清洗液中的光阻以及光阻添加剂；输送管道，用于将所述经过滤后的清洗液输送至所述清洗槽中。本发明还提供了相应的方法和线性涂布机。实施本发明实施例，可以对线性涂布机中的清洗液进行过滤，提高了清洗液的使用寿命，并提高了涂布效果。

技术领域

本发明涉及显示领域，特别涉及一种用于线性涂布机中的清洗液过滤装置、方法及线性涂布机。

背景技术

在液晶显示面板的制作过程中，在阵列基板（TFT侧）的曝光部的生产工艺中，玻璃基板在涂布前需要完成通过清洗装置的清洗（Cleaner）工作，然后进行涂布前烘烤（Dehydration Bake，DB）以及冷却后进入涂布单元，在涂布单元上涂布相应光阻（Coater）后，再次经过烘烤（Pre-bake）过程，然后进入曝光机（Exposure），利用光罩（MASK）在玻璃基板上对光阻定义图形，再经过显影制程（Developer）显示出被定义的图形，才能完成TFT曝光工艺。

如图1所示，示出了现有的一种线性涂布机（Linear Coater），其主要工作过程是如下所示：

将玻璃基板2’送到线性涂布机的位于主框架10’上的大理石涂布台（Stage）11’上；

定位装置（Alignment）夹紧玻璃基板2’并修正其偏移量；

在涂布台上打开真空吸附（打开节气门17’对多个通道18’抽真空），吸紧玻璃基板2’，让定位装置松开；

可移动的涂布机构12’上的喷嘴（Nozzle）13’移动到预吐滚轴（dummy roller）14’上以完成光阻的预吐操作（dummy），然后在电机带动下移动，以在玻璃基板2’进行光阻涂布；

在涂布完成，去除真空吸附，位于通道18’中的顶针将玻璃基板2’顶起，机械手臂（Robot）将所述玻璃基板2’移出进入后续制程单元。

在现有技术中，在制作低温多晶硅（Low Temperature Poly-silicon，LTPS）面板过程中，需要制作有机平坦层（PLN），该PLN层通过在玻璃基板上涂布一层有机光阻，然后经过高温烘烤（如220摄氏度）形成。但是，PLN层所采用的光阻为有机光阻（其粘附性更强），故在涂布过程中，需要频繁进行预吐的操作，例如，在一个实际操作中，需要每隔40分钟使喷嘴13’移动到预吐滚轴14’上进行预吐操作，以对喷嘴13’进行清洁，防止其堵塞。但在实际生产中，由于PLN层光阻中有一部分物质不溶于清洗液，在进行了多次预吐操作后，此类不溶于清洗液的物质与清洗液混合存于清洗槽15’中，会在预吐滚轴14’上形成一层白色雾状残留，而滚轴刮刀无法清除此白色雾状残余，从而导致光阻涂布过程中会因残留而在玻璃基板上形成诸如Start Mura的不良，由于PLN层无法重工（rework），故上述不良会对玻璃基板的产品良率产生不可逆转的影响，甚至会导致产品报废。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种用于线性涂布机中的清洗液过滤装置、方法及线性涂布机，可以对线性涂布机中的清洗液进行过滤，提高了清洗液的使用寿命，并提高了涂布效果。

为了解决上述技术问题，本发明的实施例的一方面提供一种用于线性涂布机中的清洗液过滤装置，其特征在于，所述清洗液过滤装置包括：

容器本体，其一侧通过第一管道与线性涂布机中盛放清洗液的清洗槽的底部连通；

设置于所述容器本体内的至少一层过滤膜片，用于过滤所述清洗液中的光阻以及光阻添加剂；

输送管道，用于将所述经过滤后的清洗液输送至所述清洗槽中。