[发明专利]防撞装置及曝光机台

说明书

本发明提供一种防撞装置及曝光机台，所述防撞装置包括力传递机构和缓冲机构，所述力传递机构包括一环形结构，所述环形结构用于以非接触的方式包围一物体；所述缓冲机构为多个并用于在所述物体的四周设置，多个所述缓冲机构用于分别与所述物体以及所述力传递机构连接。所述曝光机台包括曝光台以及所述防撞装置。本发明提供的防撞装置能够承受所述物体由于惯性而产生的碰撞，避免了所述物体与其他部件发生直接碰撞，保护了所述物体和所述其他部件；同时，此种结构的防撞装置占用空间小以及可承受来自所述物体任意方向上的碰撞。

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，具体涉及一种防撞装置及曝光机台。

背景技术

在半导体制造领域，光刻装置能够将具有不同掩膜图案的多层掩膜在精确对准下，依次成像在涂覆有光刻胶的晶片上。所述光刻装置具有用于承载所述晶片的曝光台，所述光刻装置在工作时，所述曝光台由于惯性的作用，存在与所述光刻装置内的其他部件发生碰撞的可能，所述光刻装置内的各精密部件(如物镜、对准装置、测量部件等)可能会由于碰撞而损坏，因此为曝光台设置防撞装置至关重要。

现有的防撞装置中，应用最多的为一维的油压缓冲器、记忆合金防撞条以及由多根记忆合金组成的防撞部件。其中，一维的油压缓冲器和记忆合金防撞条只能针对一个方向的碰撞产生缓冲作用，不能对斜碰撞产生缓冲作用；由多根记忆合金组成的防撞部件虽可对任意方向的碰撞产生缓冲作用，但其具有占用空间大、自身重量大等缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提供一种防撞装置及曝光机台，以解决现有技术中的光刻装置在工作时，由于惯性的作用，其内的曝光台会与其内的其他部件发生碰撞，而造成光刻装置内的各精密部件损坏的问题。

为实现上述目的，本发明提供一种防撞装置，包括：

力传递机构，所述力传递机构包括一环形结构，所述环形结构用于以非接触的方式包围一物体；以及

缓冲机构，所述缓冲机构为多个并用于在所述物体的四周设置，多个所述缓冲机构用于分别与所述物体以及所述力传递机构连接。

可选的，所述连接机构包括滑块，所述滑块以可滑动的方式与所述力传递机构连接。

可选的，所述力传递机构包括多个首尾相连的防撞臂，且任意两个相邻防撞臂以可转动的方式连接。

可选的，所述缓冲机构包括缓冲器、连接杆以及导向器；所述导向器与所述物体固定连接，并用于限定所述连接杆的运动方向；所述连接杆的一端与所述缓冲器连接，另一端以可转动的方式与所述力传递机构连接，所述缓冲器与所述物体固定连接。

可选的，所述导向器具有一个导向槽，所述连接杆在所述导向槽内活动。

可选的，所述缓冲器能够受力拉升和/或压缩。

可选的，当所述缓冲器仅能够受力压缩时，所述连接杆包括一个缓冲器滑竿以及一个导向器滑竿，所述缓冲器滑竿与所述导向器滑竿可分离式接触。

可选的，所述缓冲机构包括第二导向器、楔块、缓冲器、连接杆以及弹簧；

所述第二导向器固定安装在所述物体之上，所述楔块的一个面可滑动的连接于所述导向器，所述弹簧的两端分别连接于所述导向器与所述楔块，所述楔块通过铰链与所述力传递机构连接；

所述缓冲器与所述被保护物体的侧面固定连接；

所述连接杆一端连接在所述缓冲器上，另一端可滑动的连接于所述楔块的斜面上。

进一步的，本发明还提供一种曝光机台，所述曝光机台包括曝光台以及所述防撞装置，所述防撞装置包括力传递机构以及缓冲机构，所述力传递机构包括一环形结构，所述环形结构以非接触的方式包围所述曝光台，所述缓冲机构为多个并用于在所述曝光台的四周设置，且多个所述缓冲机构分别与所述曝光台以及所述力传递机构连接。