[发明专利]一种回转体动平衡校正装置

权利要求书

1.一种回转体动平衡校正装置，其特征在于，该回转体动平衡校正装置包括工作台、驱动电机、激光器、光路系统、调焦机构、动平衡测量系统、寻位系统和控制系统；

所述工作台上设置有安装待校正回转体的支撑桥架和旋转轴，该旋转轴架设在所述支撑桥架上，且所述待校正回转体安装固定在所述旋转轴上；

所述驱动电机的输出轴与所述旋转轴连接并带动所述旋转轴转动；

所述激光器与所述控制系统连接，用于输出高能激光；

所述光路系统与所述激光器相连，并对所述激光器输出的高能激光进行扩束整形、路径固定和聚焦；

所述调焦机构与所述光路系统连接，并对所述光路系统输出的高能激光的焦点的位置进行调节；

所述动平衡测量系统用于测量所述待校正回转体的不平衡质量和相位，并将测量结果传输到所述控制系统中；

所述寻位系统用于对所述待校正回转体上的不平衡质量的位置进行定位，并将定位结果传输到所述控制系统中；

所述控制系统根据所述寻位系统的定位结果控制所述驱动电机驱动所述旋转轴转动，使所述待校正回转体上的不平衡质量的位置旋转至所述光路系统输出的高能激光的作用区域内；根据所述动平衡测量系统的测量结果控制所述激光器输出高能激光去除所述待校正回转体上的不平衡质量。

2.根据权利要求1所述的回转体动平衡校正装置，其特征在于，所述工作台上的支撑桥架的顶部设置有固定所述旋转轴用的压板，且该压板通过固定螺钉安装固定在所述支撑桥架上。

3.根据权利要求1或2所述的回转体动平衡校正装置，其特征在于，所述光路系统包括呈依次设置的扩束镜、转向反光镜、振镜和场镜，所述扩束镜用于对所述激光器输出的高能激光进行扩束；所述转向反光镜对扩束后的高能激光进行反射转向，使所述扩束后的高能激光反射到所述振镜上，并经所述振镜和所述场镜后输出；所述振镜和所述场镜与所述调焦机构连接，并根据所述调焦机构输出的调节要求调节所述扩束后的高能激光的焦点的位置。

4.根据权利要求3所述的回转体动平衡校正装置，其特征在于，所述振镜为XY双轴振镜。

5.根据权利要求3所述的回转体动平衡校正装置，其特征在于，所述光路系统还包括指示光光源和指示光反光镜，且所述指示光反光镜位于所述扩束镜的前侧并将所述指示光光源发出的指示光反射到所述扩束镜上，且所述激光器输出的高能激光从所述指示光反光镜透射到所述扩束镜上。

6.根据权利要求1或2所述的回转体动平衡校正装置，其特征在于，所述动平衡测量系统包括振动传感器、光电探测器、数据采集卡和测量电路板，所述振动传感器采集所述待校正回转体的振动数据并转换成振动电信号，所述光电探测器检测所述待校正回转体的转速数据并转换成转速电信号，所述数据采集卡采集所述振动电信号和所述转速电信号并传输到所述测量电路板中，所述测量电路板根据所述振动电信号和所述转速电信号计算出所述待校正回转体的不平衡质量和相位。

7.根据权利要求5所述的回转体动平衡校正装置，其特征在于，所述动平衡测量系统中包括两个振动传感器，且该两个振动传感器安装在所述工作台上的两个支撑桥架上。

8.根据权利要求1或2所述的回转体动平衡校正装置，其特征在于，所述回转体动平衡校正装置还包括气体供给系统，该气体供给系统与所述控制系统连接，并在所述控制系统的控制下输出惰性气体对所述待校正回转体的加工表面进行气体保护。

9.根据权利要求8所述的回转体动平衡校正装置，其特征在于，所述气体供给系统包括储气瓶和出气管，且所述出气管上设置有与所述控制系统连接的气体控制阀。

10.根据权利要求1或2所述的回转体动平衡校正装置，其特征在于，所述回转体动平衡校正装置还包括防尘结构，该防尘结构与所述控制系统连接，并所在所述控制系统的控制下罩设在所述待校正回转体上或从所述待校正回转体上撤下。