[发明专利]高纯度高堆积密度的9,9-双[6-(2-羟乙氧基)萘基]芴的制备方法有效

专利信息
申请号: 201711029609.1 申请日: 2017-10-30
公开(公告)号: CN108017521B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 田礼彬;陆晓峰;徐卫华;苏波;陆国元;张强 申请(专利权)人: 江苏永星化工股份有限公司
主分类号: C07C41/16 分类号: C07C41/16;C07C43/23
代理公司: 宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所(普通合伙) 32264 代理人: 陈臣
地址: 223800 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 纯度 堆积 密度 羟乙氧基 萘基 制备 方法
【说明书】:

本发明以极性非质子性溶剂N,N‑二甲基乙酰胺、N,N‑二甲基甲酰胺、N‑甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、一缩二乙二醇二甲醚、一缩二乙二醇二乙醚、二缩三乙二醇二甲醚、二缩三乙二醇二乙醚、多缩乙二醇二甲(或乙)醚等为反应促进剂,在碱性条件下9,9‑双(2‑羟基萘基)芴和碳酸乙烯酯缩合制备高纯度高堆积密度的9,9‑双[6‑(2‑羟乙氧基)萘基]芴。纯度(HPLC)大于99.0%;堆积密度大于0.4g/立方厘米,干燥失重0.5%(120℃,30min);熔融吸收峰213‑222oC。X‑粉末衍射(XRPD)谱具有如附图3的形貌并具有2θ值为7.7±0.20,8.8±0.20,12.5±0.20,14.3±0.20,15.5±0.20,17.7±0.20,18.7±0.20,19.5±0.20,20.4±0.20,20.9±0.20,21.2±0.20,22.2±0.20,22.7±0.20,23.1±0.20,24.8±0.20,25.4±0.20,25.9±0.20,26.7±0.20特征衍射峰。

技术领域

高纯度高堆积密度的光电材料中间体9,9-双[6-(2-羟乙氧基)萘基]芴的制备方法。

背景技术

9,9-双[6-(2-羟乙氧基)萘基]芴是光电材料的重要中间体,由它衍生合成的环氧树脂、聚酯树脂、聚丙烯酸树脂、聚酰亚胺具有折光率高、热稳定性高和良好的透明度等优良性质,在发光二极管封装材料、光导器件、增光膜、偏光膜、反光膜、光学镜片和电子光刻材料等方面具有重要应用。

日本专利JP5513825、JP2011068624、JP2016069643 和JP2016079405 报道了9,9-双[6-(2-羟乙氧基)萘基]芴的制备方法,这些专利的合成步骤和结果都相同。该合成方法以浓硫酸为催化剂,3-巯基丙酸为助催化剂,将9-芴酮和2-(萘基氧基)乙醇在二甲苯溶液中60℃搅拌反应5小时,反应结束后用48%氢氧化钠溶液洗涤和多次水洗,所得产物纯度(HPLC分析)98.3%,收率67%,这些日本专利没有报道产物9,9-双[6-(2-羟乙氧基)萘基]芴的熔点,晶型和堆积密度。该方法耗用大量硫酸(硫酸用量是9-芴酮的4倍摩尔量)。并需高浓度氧化钠中和洗涤,造成大量废酸废水污染环境。同时需要大过量的2-(萘基氧基)乙醇原料(是9-芴酮4倍摩尔量以上),回收困难,生产成本高。并且所得产品9,9-双[6-(2-羟乙氧基)萘基]芴收率低,纯度低(98%)。

日本专利JP5330683、JP2009155253、 JP2009173648、JP2011168721、JP2011168722和JP2011168723都以碳酸乙烯酯为羟乙基化试剂,甲基咪唑为碱,在一缩二乙二醇溶剂中于100 oC使9,9-双(2-羟基萘基)芴羟乙基化。这些专利的合成步骤和结果都相同。反应粗产物经异丙醇重结晶得到,从1摩尔9-芴酮合成仅得到61克产物,产率仅11.3%。纯度95.7%。所得产品9,9-双[6-(2-羟乙氧基)萘基]芴收率极低,纯度低。同时这些专利也没有报道产物9,9-双[6-(2-羟乙氧基)萘基]芴的熔点,晶型和堆积密度。为了克服以上方法的缺点,本发明在用碳酸乙烯酯使9,9-双(2-羟基萘基)芴的羟基羟乙基化反应中,添加适量的极性非质子性溶剂,促进碱在有机溶剂中的溶解度,由于固液相转作用,促进了羟乙基化反应,缩短了反应时间,抑制了副产物聚合物的形成,简化了后处理步骤,同时三废大量减少,产率大幅度提高,得到高纯度高堆积密度的9,9-双[6-(2-羟乙氧基)萘基]芴。

发明内容

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