[发明专利]一种用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法

权利要求书

1.一种用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法，其特征在于，所述光学玻璃用于对二级光谱进行过滤，以及对光谱响应进行校正，该光学玻璃的设计方法包括以下步骤：

装调步骤：使入射光穿过高光谱成像仪的入射狭缝，然后入射光依次穿过准直系统、分光系统和聚焦系统后，由探测器接收，探测器接收到的光谱包括一级光谱和二级光谱，对高光谱成像仪进行装调，计算出探测器与聚焦系统之间任意位置处二级光谱所在的位置；

测量步骤：测量探测器的光谱响应曲线，记录光谱响应曲线的结果，并根据光谱响应曲线结果计算相应的光谱响应均匀校正透过率曲线；

镀膜步骤：在探测器与聚焦系统之间的某一位置设置一片光学玻璃，根据二级光谱在光学玻璃上的位置，在光学玻璃的靠近聚焦系统的一侧相应区域镀一层二级光谱滤光膜层，二级光谱滤光膜层用于对二级光谱进行过滤；

根据光谱响应均匀校正透过率曲线，在光学玻璃的靠近探测器的一侧镀一层光谱响应均匀校正膜层，光谱响应均匀校正膜层用于对光谱响应进行校正。

2.根据权利要求1所述的用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法，其特征在于，全部二级光谱与部分一级光谱完全重叠。

3.根据权利要求1所述的用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法，其特征在于，一级光谱的下端与光学玻璃的下端齐平，一级光谱的上端距离光学玻璃下端的距离为h1，二级光谱的下端与光学玻璃的下端齐平，二级光谱的上端距离光学玻璃下端的距离为h2，二级光谱滤光膜层的下端与光学玻璃的下端齐平，二级光谱滤光膜层的上端距离光学玻璃下端的距离为h3，h1＞h3＞h2。

4.根据权利要求3所述的用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法，其特征在于，二级光谱的最大波长为λ1，二级光谱滤光膜层的上端位置处对应的一级光谱的波长为λ2，λ2＞λ1。

5.根据权利要求4所述的用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法，其特征在于，二级光谱滤光膜层的材料采用波长大于λ2的光均能够通过的材料。

6.根据权利要求3所述的用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法，其特征在于，入射光的波段为400nm-1000nm，一级光谱的波段为400nm-1000nm，一级光谱下端的波长为1000nm，一级光谱上端的波长为400nm，二级光谱的波段为400nm-500nm，二级光谱下端的波长为500nm，二级光谱上端的波长为400nm。

7.根据权利要求6所述的用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法，其特征在于，波段为400nm-500nm的二级光谱与波段为800nm-1000nm的一级光谱重叠。