[发明专利]用于计算横截面积的方法

说明书

本发明涉及一种用于计算横截面积的方法，以计算粘附到衬底上的粘附体的横截面积，用于计算横截面积的方法包含：用于获取粘附体的厚度改变曲线图的过程；用于提取在粘附体的厚度改变曲线图上的峰顶与基线之间存在的多个过渡点的过程；和用于使用粘附体的厚度改变曲线图上的过渡点之间的值计算粘附体的横截面积的过程。通过所述方法，能够即时且准确地产生粘附体的横截面积。

技术领域

本发明涉及一种用于计算横截面积的方法，且更确切地说，涉及一种能够即时且准确地计算粘附到衬底上的粘附体的横截面积的用于计算横截面积的方法。

背景技术

一般来说，涂覆装置将例如硅的原材料涂覆到玻璃上以形成图案。涂覆装置可包含用于排出原材料的喷嘴、用于测量喷嘴与玻璃之间的空间的位移传感器和用于移动喷嘴的驱动器。

为了使用此涂覆装置将图案形成于玻璃上，首先应测量玻璃与喷嘴之间的距离，且接着应通过涂覆装置上下移动来调整玻璃与喷嘴之间的空间，使得原材料由涂覆装置排出。且接着，通过移动喷嘴(原材料从其排出)而形成图案。此时，重要地，应按预定量将原材料涂覆于玻璃上。为了验证以上，测量涂覆的原材料的横截面积，且可将测量的横截面积与待涂覆到单位面积上的原材料的量比较。

为了测量原材料的横截面积，在相关技术中使用表面扫描激光位移传感器。然而，此位移传感器在可测量横截面积的范围中具有限制以具有非常小的可测量的区域。因此，为了准确地测量原材料的横截面积，应通过移动和停止位移传感器来测量多个地方的横截面积。因此，存在在测量原材料的横截面积上花费太多时间的问题。

相关技术文献

(专利文献0001)KR10-0965903 B1

发明内容

技术问题

本发明是提供一种用于通过使用粘附体的厚度改变曲线图计算横截面积的方法，通过所述方法，可容易地计算粘附到衬底上的粘附体的横截面积。

本发明还提供一种用于计算横截面积的方法，通过所述方法，通过即时计算粘附到衬底上的粘附体的横截面积可改善过程的有效性。

技术解决方案

本发明涉及一种用于计算横截面积的方法，以计算粘附到衬底上的粘附体的横截面积，且所述用于计算横截面积的方法包含：用于获取衬底的厚度改变曲线图的过程；用于提取在粘附体的厚度改变曲线图上的峰顶(peak)与基线之间存在的多个过渡点的过程；和用于使用粘附体的厚度改变曲线图上的过渡点之间的值计算粘附体的横截面积的过程。

用于获取粘附体的厚度改变曲线图的过程包含：用于获取衬底的均匀性曲线图的过程；用于获取粘附体的均匀性曲线图的过程；和用于计算衬底的均匀性曲线图与粘附体的均匀性曲线图的过程。

用于获取衬底的均匀性曲线图的过程包含用于测量在衬底上的一个方向上的线上的高度值的过程，用于获取粘附体的均匀性曲线图的过程包含用于测量对应于所述线的粘附体的高度值的过程，且用于计算衬底的均匀性曲线图和粘附体的均匀性曲线图的过程包含用于从粘附体的均匀性曲线图减去衬底的均匀性曲线图的过程。

用于测量衬底的高度值的过程包含用于通过沿着衬底上的线在一个方向上移动用于测量高度的测量仪器来测量高度值的过程，且用于测量粘附体的高度值的过程包含用于通过沿着粘附体上的线在一个方向上移动测量仪器来测量高度值的过程。

所述方法还包含在获取粘附体的厚度改变曲线图后，用于设定参考高度的过程；和用于提取粘附体的厚度改变曲线图与参考高度交叉的相交点的过程。

用于设定参考高度的过程包含用于将与粘附体的厚度改变曲线图在多个点处会合的高度设定为参考高度的过程。

粘附体的厚度改变曲线图具有多个峰顶，且用于设定参考高度的过程包含用于将与峰顶中的每一个在多个点处会合的最小高度设定为参考高度的过程。