[发明专利]一种二硫化钼插层水滑石复合材料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种二硫化钼插层水滑石复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将二价金属离子M²⁺、三价金属离子M³⁺、可溶性钼酸盐以及碱溶解于水中，于20℃～50℃下搅拌反应1h～4h，然后于70℃～95℃下晶化4h～12h，得钼酸根插层水滑石前聚体；

(2)向步骤(1)所得钼酸根插层水滑石前聚体中加入硫源和含羟基胺类化合物，然后于160℃～300℃下进行水热反应600min～1440min，过滤，即得二硫化钼插层水滑石复合材料。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，二价金属离子M²⁺、三价金属离子M³⁺、可溶性钼酸盐和碱的摩尔比为1：(0.3～0.5)：(0.5～1)：(1～2)。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，二价金属离子M²⁺选自Mg²⁺、Ni²⁺、Co²⁺、Zn²⁺、Cu²⁺中的至少一种，三价金属离子M ³⁺选自Al³⁺、Cr³⁺、Fe³⁺、Sc³⁺中的至少一种，可溶性钼酸盐选自钼酸钠、钼酸铵、钼酸钾和钼酸镁中的至少一种，碱为氢氧化钠、氢氧化钾、氨水中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，硫源选自硫脲、硫代乙酰胺、硫化钠、硫化钾中的至少一种，含羟基胺类化合物选自三乙醇胺、三异丙醇胺、乙二胺四乙醇、二乙醇单异丙醇胺、N-N-双(2-羟乙基)乙二胺中的至少一种。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，硫源的加入量为钼酸根插层水滑石前聚体质量的2～10倍，含羟基胺类化合物的加入量为钼酸根插层水滑石前聚体质量的0.3～5倍。

6.一种二硫化钼插层水滑石复合材料，其特征在于，所述复合材料由权利要求1～5中任一项所述的制备方法制备得到。

7.一种如权利要求6所述的二硫化钼插层水滑石复合材料的应用，其特征在于，将其作为催化剂用于光催化降解水体系中的有机物。

8.根据权利要求7所述的应用，其特征在于，所述水体系中有机物的浓度为5mg/L～100mg/L；所述二硫化钼插层水滑石复合材料在所述水体系中的用量为5mg/L～200mg/L。