[发明专利]氧化锆种植体表面多重处理方法

权利要求书

1.氧化锆种植体表面多重处理方法，包括喷丸步骤，烧结步骤，酸腐蚀处理步骤，其特征在于：在所述烧结步骤前或烧结步骤后还包括激光处理步骤，所述激光处理步骤的激光频率为20-50KHz。

2.如权利要求1所述的氧化锆种植体表面多重处理方法，其特征在于：在所述烧结步骤前和烧结步骤后均设有激光处理步骤。

3.如权利要求2所述的氧化锆种植体表面多重处理方法，其特征在于：所述激光处理采用光纤激打标机进行，其激光处理工艺参数取为：激光频率为20-50KHz，速度为800-3000mm/s，功率为8-20W，焦距取160MM。

4.如权利要求1所述的氧化锆种植体表面多重处理方法，其特征在于：所述酸腐蚀处理步骤采用浓硫酸、HF酸中其中一种进行酸腐蚀。

5.如权利要求1所述的氧化锆种植体表面多重处理方法，其特征在于：所述酸腐蚀处理步骤采用先浓硫酸后HF酸，或者先HF酸后浓硫酸两种进行先后交替酸腐蚀。

6.如权利要求1所述的氧化锆种植体表面多重处理方法，其特征在于：所述喷丸步骤具体为：在成形的氧化锆种植体坯料烧结以前，先对成形的氧化锆种植体坯料表面进行喷丸处理，以便在成形的氧化锆种植体坯料表面形成凹凸状坑，然后进行烧结，形成表面带有坑状结构的氧化锆种植体。

7.如权利要求6所述的氧化锆种植体表面多重处理方法，其特征在于：所述成形的氧化锆种植体坯料是经机械切削加工成形的氧化锆种植体坯料或由注射成型的氧化锆种植体坯料；机械加工的原料可是全瓷义齿用氧化锆瓷块。

8.如权利要求6所述的氧化锆种植体表面多重处理方法，其特征在于：所述喷丸处理采用球粒状的丸进行，所述丸是锆球或氧化铝球。

9.如权利要求8所述的氧化锆种植体表面多重处理方法，其特征在于：所述球粒状的丸的粒度为φ0.15±0.08mm。

10.如权利要求6所述的氧化锆种植体表面多重处理方法，其特征在于：所述成形的氧化锆种植体坯料是成形的氧化锆复合种植体外壳坯料，或者是成形的整体氧化锆种植体坯料。