[发明专利]曲面玻璃板材及其制备方法、移动终端

权利要求书

1.一种制备曲面玻璃板材的方法，其特征在于，包括：

对平面玻璃板进行第一湿法刻蚀处理，以便在所述平面玻璃板上形成第一纹理面；

对设置有所述第一纹理面的所述平面玻璃板进行第二湿法刻蚀处理，以便形成第二纹理面；

对形成有所述第二纹理面的所述平面玻璃板进行弯折处理，以便在所述平面玻璃板上形成曲面，其中，

所述第一湿法刻蚀处理的刻蚀深度为15～30微米；

所述第二湿法刻蚀处理的刻蚀深度为10～15微米；

所述第一湿法刻蚀处理的刻蚀温度为25～40摄氏度，刻蚀速度为5～8微米/分钟，刻蚀时间为3～6分钟，所述第一纹理面的光泽度为35～65，粗糙度为0.1-0.15，雾度为10％-15％，透过率不低于85％，反射率不小于10％；

所述第二湿法刻蚀处理的刻蚀温度为20～30摄氏度，刻蚀速度为3～6微米/分钟，刻蚀时间为2～5分钟，所述第二纹理面的光泽度为25-45，粗糙度为0.15-0.2，雾度为15％-17％，透过率为70～80％，反射率不小于20％。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一纹理面覆盖所述平面玻璃板的部分表面，所述第二纹理面覆盖所述平面玻璃板未被所述第一纹理面覆盖的至少一部分区域。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二纹理面覆盖所述第一纹理面的至少一部分区域。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一纹理面覆盖所述平面玻璃板的部分表面，所述第二纹理面覆盖所述第一纹理面的至少部分区域，以及所述平面玻璃板上未被所述第一纹理面覆盖的区域。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一湿法刻蚀处理以及所述第二湿法刻蚀处理分别独立地包括：

在所述平面玻璃板表面设置掩膜；

将所述平面玻璃板设置有所述掩膜的一侧置于刻蚀液中；以及

去除所述掩膜。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，基于所述刻蚀液的总质量，所述刻蚀液包括：

25～55wt％的氢氟酸；

6～25wt％的硝酸；

15～45wt％的磷酸；

0～25wt％的醋酸；以及

0～25wt％的硫酸。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，基于所述刻蚀液的总质量，所述刻蚀液包括：

25～45wt％的氢氟酸；

6～25wt％的硝酸；

15～35wt％的磷酸；以及

5～25wt％的醋酸。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，基于所述刻蚀液的总质量，所述刻蚀液包括：

40～55wt％的氢氟酸；

6～25wt％的硝酸；

25～45wt％的磷酸；以及

6～25wt％的硫酸。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括：

对形成有所述曲面的所述平面玻璃板进行光学镀膜处理；以及

对经过所述光学镀膜处理的所述平面玻璃板进行喷墨着色处理。

10.一种曲面玻璃板材，其特征在于，所述曲面玻璃板材是通过权利要求1-9任一项所述的方法制备的。