[发明专利]一种偏置中心点的角度调整机构在审

专利信息
申请号: 201710971079.6 申请日: 2017-10-18
公开(公告)号: CN107597485A 公开(公告)日: 2018-01-19
发明(设计)人: 梁北洪 申请(专利权)人: 梁北洪
主分类号: B05B15/68 分类号: B05B15/68
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 谭晓欣
地址: 529321 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 偏置 中心点 角度 调整 机构
【说明书】:

技术领域

发明涉及喷涂设备领域,具体而言,涉及一种偏置中心点的角度调整机构。

背景技术

在传统的喷涂设备中,喷嘴与夹持喷嘴的部件固定连接,导致喷嘴只能以同一方向喷出涂料,然而需要喷涂的工件形状各异,单一的喷涂方向难以满足生产的需求,因此需要一种能随时调节喷涂角度的调整机构。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的上述技术问题之一。为此,本发明提出一种偏置中心点的角度调整机构。

为实现上述目的,本发明的技术方案如下:

一种偏置中心点的角度调整机构,包括底板,以及连接在底板上的喷嘴,底板上滑动安装有调节机构,喷嘴固装在调节机构上,调节机构包括呈圆弧型的滑板,滑板包括内圆弧和外圆弧,底板上安装有多个分别与内圆弧和外圆弧抵接的、用于引导滑板运动的滚轮,滑板上安装有调节杆,喷嘴安装在调节杆的一端,调节杆的另一端连接有调节螺杆,调节螺杆可转动安装在底板上。

根据上述技术方案进行进一步的改进,滑板贯穿设置有与底板连接的限位螺柱,滑板上开设有与限位螺柱配合的长孔。

根据上述技术方案进行进一步的改进,底板上设置有刻度尺,调节杆远离喷嘴的一端指向刻度尺。

本发明的有益效果是:本发明通过圆弧形的滑块与滚轮的配合,使安装在滑块上的喷嘴的喷射角度可调,解决的传统技术中喷嘴方向固定的问题,适用于众多的工件,提高了喷涂的质量。

附图说明

以下结合附图和实例作进一步说明。

图1是本发明的结构示意图。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。

参照图1,一种偏置中心点的角度调整机构,包括底板1,以及连接在底板1上的喷嘴2,底板1上滑动安装有调节机构,喷嘴2固装在调节机构上,调节机构包括呈圆弧型的滑板3,滑板3包括内圆弧和外圆弧,底板1上安装有多个分别与内圆弧和外圆弧抵接的、用于引导滑板3运动的滚轮4,滑板3上安装有调节杆5,喷嘴2安装在调节杆5的一端,调节杆5的另一端连接有调节螺杆6,调节螺杆6可转动安装在底板1上。通过圆弧形的滑块与滚轮4的配合,使安装在滑块上的喷嘴2的喷射角度可调,解决的传统技术中喷嘴2方向固定的问题,适用于众多的工件,提高了喷涂的质量。

进一步,为了防止滑板3脱落,滑板3贯穿设置有与底板1连接的限位螺柱9,滑板3上开设有与限位螺柱9配合的长孔8。

进一步,为了显示喷嘴2的喷射角度,底板1上设置有刻度尺7,调节杆5远离喷嘴2的一端指向刻度尺7。

在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。

此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。

在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

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