[发明专利]一种应用于加速度计的SU‑8柔性光波导及其制备方法

权利要求书

1.一种应用于加速度计的SU-8柔性光波导，其特征在于包括硅基底（1）；硅基底（1）上设有一层以聚合物NOA73为材料的下包层（2），下包层（2）上设置有矩形SU-8芯层（3），下包层（2）上还设置有将矩形SU-8芯层（3）覆盖的以聚合物NOA73为材料的上包层（4），上包层（4）上镀有Al掩膜（5）。

2.如权利要求1所述的一种应用于加速度计的SU-8柔性光波导的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

第一步：选用硅作为基底，清洗并烘干；

第二步：将聚合物材料NOA73旋涂于烘干后的硅基底（1）上作为下包层（2），旋涂参数设定为：2000rad/min，旋涂时间为7~8s；

第三步：将带有下包层（2）的硅基底放入紫外曝光机中对聚合物材料NOA73进行紫外固化，曝光参数为200 acc/cm²，曝光时间为1min；

第四步：曝光完成后，将硅基底（1）置于烘台上前烘，前烘温度为60℃，时间为3min；

第五步：在固化后的下包层（2）上旋涂SU-8光刻胶，匀胶参数设置为：转速为3000rad/min，时间为6s；

第六步：将涂有SU-8光刻胶的硅基底（1）置于烘台上前烘，前烘温度90℃，时间为2min；

第七步：对SU-8光刻胶进行显影，将光刻胶两侧的部分去掉，得到矩形SU-8芯层（3），然后清洗，最后置于烘台上进行后烘，后烘温度60℃，时间为1min；

第八步：在得到矩形SU-8芯层（3）的硅基底上旋涂一层聚合物材料NOA73作为上包层（4），然后将此硅基底放入紫外曝光机中对上包层聚合物材料NOA73进行紫外固化，曝光参数为200 acc/cm²，曝光时间为1min；

第九步：将硅基底（1）置于真空蒸镀箱中在上包层上镀Al电极层，蒸镀时间为20min；

第十步：在Al电极层上旋涂正光刻胶作为保护层；

第十一步：将有保护层的硅基底置于掩膜版下，用紫外光刻机进行光刻并显影，去除掉Al电极层两侧的部分，得到Al掩膜（5），光刻完成后立即放入显影液中进行显影去除Al掩膜（5）上的保护层，完成光波导的制备。