[发明专利]一种阵列基板及显示面板、显示装置在审
| 申请号： | 201710927363.3 | 申请日： | 2017-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN107589611A | 公开（公告）日： | 2018-01-16 |
| 发明（设计）人： | 齐智坚;杨妮;许亨艺;王植;胡双;文江鸿;侯宇松 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/135;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种阵列基板，其特征在于，包括多个呈矩阵排列、且由像素电极界定的亚像素以及遮光区，所述遮光区包括位于相邻的亚像素之间、以及与所述相邻的亚像素均交叠的区域；
所述阵列基板还包括设置于衬底基板上、且主要由铁电材料构成铁电层，所述铁电层位于所述遮光区中。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光区与所述相邻的亚像素交叠的区域设置有所述铁电层。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光区与所述相邻的亚像素交叠的区域全部设置有所述铁电层。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述铁电层在所述衬底基板上的正投影与所述遮光区在所述衬底基板上的正投影重合。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置于所述衬底基板上的公共电极。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极和所述像素电极位于不同层，且所述公共电极和所述像素电极中一个为狭缝电极，另一个为面状电极；
所述铁电层位于所述公共电极和所述像素电极之间。
7.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述铁电层与所述公共电极和所述像素电极中靠近所述衬底基板中的一个电极直接接触。
8.一种显示面板，其特征在于，包括：权利要求1-7任一项所述的阵列基板以及与所述阵列基板对盒的第二基板，所述阵列基板中的遮光区与设置于所述第二基板中的黑矩阵对应。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，在公共电极和像素电极中仅像素电极位于所述阵列基板中的情况下，所述公共电极位于所述第二基板中。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求8或9所述的显示面板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710927363.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
