[发明专利]掩膜板和曝光设备

权利要求书

1.一种掩膜板，用于对阵列基板进行曝光，所述阵列基板包括显示区域和环绕所述显示区域的周边区域，所述显示区域包括多个显示有源区，所述周边区域包括多个周边有源区，所述周边有源区的长度大于所述显示有源区的长度，所述掩膜板包括掩膜层，其特征在于，所述掩膜层包括对应于所述周边有源区的第一掩膜部，所述第一掩膜部包括多个彼此间隔的掩膜条；在所述第一掩膜部中，所述掩膜条的透光程度与其他部分的透光程度不同；

所述掩膜层还包括与所述显示有源区对应的第二掩膜部，该第二掩膜部为半透光膜或者由第三掩膜部、第四掩膜部和两个遮光块环绕的全透光区。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，在所述第一掩膜部中，所述掩膜条的透光程度低于其他部分的透光程度。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，在所述第一掩膜部中，

所述掩膜条不透光，其他部分全透光；

或者，所述掩膜条半透光，其他部分全透光；

或者，所述掩膜条不透光，其他部分半透光。

4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜部包括沿其宽度方向排列的两个所述掩膜条，所述掩膜条的延伸方向与所述第一掩膜部的宽度方向交叉；两个所述掩膜条之间的距离大于所述周边有源区的宽度；所述第一掩膜部中，所述掩膜条以外的部分半透光。

5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜部包括沿其宽度方向排列的多个所述掩膜条，所述掩膜条的延伸方向与所述第一掩膜部的宽度方向相交叉，距离最远的两个第一掩膜条之间的距离小于所述周边有源区的宽度；或者，

所述第一掩膜部包括沿其长度方向排列的多个所述掩膜条，所述掩膜条的延伸方向与所述第一掩膜部的长度方向相交叉，距离最远的两个掩膜条之间的距离小于所述周边有源区的长度。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜条的宽度在0.5μm～1.5μm之间，相邻两个掩膜条之间的间距在0.5μm～1.5μm之间。

7.一种曝光设备，其特征在于，包括扫描光源和权利要求1至6中任意一项所述的掩膜板。

8.根据权利要求7所述的曝光设备，其特征在于，当所述掩膜板为权利要求4所述的掩膜板时，所述扫描光源的扫描方向为所述第一掩膜部的长度方向；

当所述掩膜板为权利要求5所述的掩膜板时，所述扫描光源的扫描方向为所述掩膜条的排列方向。