[发明专利]抗污膜、指纹模组、抗污膜的制备方法

权利要求书

1.一种指纹模组的抗污膜，其特征在于，所述抗污膜包括：

底漆层；

中漆层，形成在所述底漆层上；和

面漆层，形成在所述中漆层上，所述面漆层内含有抗指纹试剂，所述底漆层及所述面漆层均为透明结构，所述中漆层为不透明结构。

2.根据权利要求1所述的抗污膜，其特征在于，所述面漆层包括多个子面漆层，每个子面漆层均包含有抗指纹试剂，在沿远离所述中漆层的方向上，多个所述子面漆层中的所述抗指纹试剂含量逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的抗污膜，其特征在于，所述面漆层包括多个子面漆层，每个所述子面漆层均包含有光敏材料，在沿远离所述中漆层的方向上，多个所述子面漆层中的所述光敏材料含量逐渐减小。

4.一种指纹模组，其特征在于，所述指纹模组包括：

指纹识别传感器；及

权利要求1-3任意一项所述的抗污膜，所述抗污膜形成在所述指纹识别传感器上。

5.一种抗污膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

向指纹识别传感器的表面喷涂底漆；

烘烤所述底漆以得到底漆层；

向所述底漆层上喷涂中漆；

烘烤所述中漆以得到中漆层；和

向所述中漆层上喷涂经过超声雾化的面漆并固化所述面漆以得到面漆层，所述面漆层内含有抗指纹试剂。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述向指纹识别传感器的表面喷涂底漆的步骤包括：

采用超声波喷头将所述底漆进行超声雾化并将经过超声雾化的所述底漆喷涂至所述指纹识别传感器的表面。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述底漆的材料包括环氧改性树脂，所述烘烤所述底漆的温度为75℃-95℃，烘烤时间为10分钟-30分钟。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述向所述底漆层上喷涂中漆的步骤包括：

采用超声波喷头将所述中漆进行超声雾化并将经过超声雾化的所述中漆喷涂至所述底漆层的表面。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述中漆的材料包括丙烯酸树脂，所述烘烤所述中漆的温度为75℃-95℃，烘烤时间为10分钟-30分钟。

10.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述面漆层包括多个子面漆层，所述向所述中漆层上喷涂经过超声雾化的面漆并固化所述面漆以得到所述面漆层的步骤包括：

向所述中漆层上喷涂完多个所述子面漆层后固化多个所述子面漆层得到所述面漆层；或者

向所述中漆层上喷涂一个所述子面漆层并固化该一个子面漆层，再喷涂下一个子面漆层并固化该下一个子面漆层直至形成所述面漆层。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，每个所述子面漆层均包含有抗指纹试剂，在沿远离所述中漆层的方向上，多个所述子面漆层中的所述抗指纹试剂含量逐渐增大。

12.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，每个所述子面漆层均包含有光敏材料，在沿远离所述中漆层的方向上，多个所述子面漆层中的所述光敏材料的含量逐渐减小。

13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，所述光敏材料包括聚氨酯丙烯酸，所述抗指纹试剂的材料包括硅氟化物。