[发明专利]一种倒置结构的铜铟镓硒太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 201710845183.0 | 申请日: | 2017-09-19 |
公开(公告)号: | CN107731942A | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 许开华;李轶 | 申请(专利权)人: | 荆门市格林美新材料有限公司;格林美股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/18 |
代理公司: | 北京双收知识产权代理有限公司11241 | 代理人: | 曾晓芒 |
地址: | 448000 湖北省荆*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 倒置 结构 铜铟镓硒 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种倒置结构的铜铟镓硒太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述方法包括下述步骤:
在基材表面沉积Al电极;
在所述Al电极表面沉积ZnO窗口层;
在所述ZnO窗口层表面沉积Cu-In-Ga或Cu-In-Ga-Se合金薄层,得到多层薄膜结构;
将所述多层薄膜结构置于含硒气氛中退火处理,将Cu-In-Ga或Cu-In-Ga-Se合金薄层硒化形成铜铟镓硒吸收层,同时将ZnO窗口层部分硒化形成ZnSe缓冲层;
在所述铜铟镓硒吸收层表面沉积背电极。
2.如权利要求1所述倒置结构的铜铟镓硒太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述多层薄膜结构在含硒气氛中退火处理的工艺参数为:退火温度为200~800℃、升温速度为0.1~200℃/s、保温时间为1~240分钟,退火炉内气压为0.00001~10atm。
3.如权利要求2所述倒置结构的铜铟镓硒太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述Al电极的厚度为100~5000纳米,所述ZnO窗口层的厚度为10~5000纳米,所述Cu-In-Ga或Cu-In-Ga-Se合金薄层厚度为100~5000纳米,所述背电极厚度为100~5000纳米。
4.如权利要求3所述倒置结构的铜铟镓硒太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述Cu-In-Ga或Cu-In-Ga-Se合金薄层中铜原子与铟原子的摩尔比为(5~0.1):1,铜原子与镓原子的摩尔比为(5~0.1):1。
5.如权利要求4所述倒置结构的铜铟镓硒太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述背电极采用真空蒸发法制备得到,所述背电极的材质为钼、铝、镍、铜、金、铂中的一种或几种。
6.如权利要求1-5任一项所述倒置结构的铜铟镓硒太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述含硒气氛的硒源由硒蒸汽和/或硒化氢提供;所述硒源通过载气运输,所述载气为氦气、氩气、氮气中的至少一种,载气气体流量为10~100000sccm。
7.如权利要求6所述倒置结构的铜铟镓硒太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述沉积Al电极采用直流磁控溅射法、真空反应蒸发法、脉冲激光沉积法、金属有机化学气相沉积法中的一种;所述沉积ZnO窗口层采用射频溅射法;所述沉积Cu-In-Ga或Cu-In-Ga-Se合金薄层采用直流磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法、化学镀、涂覆法中的一种。
8.一种倒置结构的铜铟镓硒太阳能电池,其特征在于,所述太阳能电池采用如权利要求1-7任一项所述方法制得,所述太阳能电池从下至上依次为Al电极、ZnO窗口层、铜铟镓硒吸收层和背电极,其中ZnO窗口层的上表面一定厚度进行硒化形成ZnSe缓冲层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的