[发明专利]防止伪造、假冒或重复使用的结构及该结构的使用方法

权利要求书

1.一种用于防止伪造、假冒或重复使用的结构，包括：

金属层；

光转换图案层，包括多个光转换纳米颗粒，所述光转换图案层形成在所述金属层上；

金属图案层，放置在所述金属层和所述光转换图案层上；以及

粘合剂膜，放置在所述金属图案层上，

其中所述金属图案层形成有第一编码图案，所述光转换图案层形成有第二编码图案，并且

在所述第一编码图案和所述第二编码图案之间的重叠部分处形成可视图案区域，当施加红外光时在所述可视图案区域处发生光转换放大现象。

2.根据权利要求1所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构，其中所述金属图案层由岛状金属纳米颗粒形成。

3.根据权利要求1所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构，其中在所述金属层和所述金属图案层之间发生间隙等离激元现象。

4.根据权利要求1所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构，其中所述金属层和所述金属图案层中的每一个独立地是选自金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)、铬(Cr)、氧化铟锡(ITO)、掺铝氧化锌(AZO)和掺氟氧化锡(FTO)的任意一种。

5.根据权利要求1所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构，其中所述光转换纳米颗粒具有10nm至300nm的平均直径。

6.根据权利要求1所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构，其中所述光转换纳米颗粒是选自由掺杂有镱(Yb)、铒(Er)、铥(Tm)、钇(Y)或它们的混合物的卤化物、硫族化物和金属氧化物组成的组中的任意一种。

7.一种用于防止伪造、假冒或重复使用的结构的制造方法，包括：

(a)在基板上形成金属图案；

(b)将所述金属图案转印到粘合剂膜上以制造具有金属图案层的粘合剂膜；

(c)制备金属基板；

(d)在所述金属基板上形成包括光转换纳米颗粒的光转换图案以制造具有光转换图案层的基板；以及

(e)将所述具有金属图案层的粘合剂膜放置在所述具有光转换图案层的基板上，以形成可视图案区域，所述可视图案区域是所述光转换图案层和所述金属图案层之间的重叠部分。

8.根据权利要求7所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构的制造方法，其中步骤(a)中的所述基板是具有选自石墨烯、过渡金属二硫族化物(TMDC)材料、石墨、SiC、SiNx、AlN和金刚石中的任意一种的层的基板。

9.根据权利要求7所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构的制造方法，其中步骤(a)中的所述金属图案在预设位置形成单独的对准键，使得在步骤(b)中将与所述对准键匹配的图案一起转印到所述粘合剂膜。

10.根据权利要求9所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构的制造方法，其中步骤(c)中的所述金属基板具有与所述粘合剂膜中形成的所述对准键匹配的印记。

11.根据权利要求10所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构的制造方法，其中在步骤(e)之后，所述方法还包括去除与所述粘合剂膜的所述对准键匹配的所述图案的转印部分。

12.根据权利要求10所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构的制造方法，其中步骤(d)中的所述光转换图案是通过与所述对准键匹配的所述印记对准的图案化而形成的，使得形成所述光转换图案和所述金属图案之间的重叠部分。

13.根据权利要求7所述的用于防止伪造、假冒或重复使用的结构的制造方法，其中步骤(a)中的所述金属图案形成的厚度为2nm至15nm。