[发明专利]一种铁掺杂二硫化钼涂层材料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种铁掺杂二硫化钼涂层抗菌材料，其特征在于，所述铁掺杂二硫化钼涂层抗菌材料包括原位生长于金属基底表面的掺杂有铁元素的二硫化钼纳米片，所述铁元素以钼酸亚铁的形式掺杂于二硫化钼纳米片中；所述铁掺杂二硫化钼涂层材料中铁元素的掺杂量为1～4wt%。

2.根据权利要求1所述的铁掺杂二硫化钼涂层抗菌材料，其特征在于，所述二硫化钼纳米片的长度为200～400nm，厚度为50～100nm。

3.根据权利要求1或2所述的铁掺杂二硫化钼涂层抗菌材料，其特征在于，所述金属基底为生物医用钛或生物医用钛合金。

4.一种如权利要求1-3中任一项所述铁掺杂二硫化钼涂层抗菌材料的制备方法，其特征在于，以金属基底作为基底，以含有硫源、钼源、铁源和螯合剂的混合水溶液或水溶胶作为水热介质，通过180～220℃下一步水热反应得到所述铁掺杂二硫化钼涂层抗菌材料；

所述硫源为硫脲、硫代乙酰胺、半胱氨酸、硫化钠和硫化铵中的至少一种；

所述钼源为二水合钼酸钠、六水合仲钼酸铵、硫代钼酸铵中的至少一种；

所述铁源为金属铁（II）或/和铁（III）的可溶性盐类；

所述螯合剂为乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠和柠檬酸中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述硫源的浓度为0.1～0.3 M。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述钼源的浓度为0.01～0.05 M。

7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述铁源的浓度为0.01～0.03 M。

8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述螯合剂的浓度为0.01～0.06M。

9.根据权利要求4-8中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述一步水热反应的反应时间为4～8小时。

10.一种如权利要求1-3中任一项所述铁掺杂二硫化钼涂层抗菌材料在制造医用钛合金器件中的应用。