[发明专利]一种两轴两框架稳定平台瞄准线精度补偿方法有效

专利信息
申请号: 201710771960.1 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN107607128B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 王锟;王建;杨新颖;徐兵;孙静;李雪玲;张勇 申请(专利权)人: 天津航天中为数据系统科技有限公司
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00;G01C21/18;B64D47/00
代理公司: 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 代理人: 李成运
地址: 300300 天津市滨海新区高新区滨海科*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 两轴两 框架 稳定 平台 瞄准 精度 补偿 方法
【说明书】:

发明创造提供了一种两轴两框架稳定平台瞄准线精度补偿方法,所述的陀螺分别安装在方位基座、横滚基座和俯仰轴所述的横滚陀螺安装在方位旋转框架上,本发明是在两轴两框架稳定平台结构形式的基础上,为了全面弥补干扰速度分量,减少干扰速度分量对装置稳定精度的影响,通过三个陀螺分别安装于方位基座、横滚基座、俯仰轴的安装方式将干扰速度分量测出并将其弥补,提高平台稳定精度。

技术领域

本发明创造属于飞行器负载领域,尤其是涉及一种两轴两框架稳定平台瞄准线精度补偿方法。

背景技术

目前大多数陀螺稳定平台的结构形式为两轴两框架,即将光电传感器置于由方位和俯仰框架组成的两轴两框架平台内,通过俯仰框架上安装的方位陀螺和俯仰陀螺分别敏感方位和俯仰相对惯性空间的运动,然后经控制回路驱动框架力矩电机以克服外界干扰,达到稳定效果。这种两轴两框架平台技术相对较为成熟,但由于该平台技术的陀螺安装形式无法将干扰量全部测出,导致瞄准线精度不高,只适用于低速、轻型、对稳定精度要求不高的稳定平台。

在高精度的光电稳定平台中,广泛采用两轴四框架的稳定方式实现微弧级的稳定,与传统的两轴两框架平台相比,运动隔离性好,稳定精度高。外框架为粗稳定系统,内框架为精稳定系统。利用外框架随动于内框架的工作原理,可以保证内框架的方位和俯仰呈相互垂直状态,俯仰角始终为0,从而消除方位方向上由于几何约束存在的干扰速度分量,达到提高平台稳定精度的目的,这种方法成本较高,且装置重量和尺寸较大,不利于飞机挂载。

现有技术方法大多是在两轴两框架稳定平台结构形式的基础上,通过俯仰框架上安装的方位陀螺和俯仰陀螺分别敏感方位和俯仰干扰角速度,这种方法由于俯仰角的存在导致在方位方向产生了干扰速度分量,现有装置的陀螺安装方式无法测量该干扰速度分量,造成这部分干扰速度分量无法弥补,导致平台稳定精度变差。

此外通过两轴四框架的结构形式,利用外框随动于内框的原理使得俯仰角始终为0,从而消除方位方向上由于几何约束存在的干扰速度分量,达到提高平台稳定精度的目的,这种方法成本较高,且装置重量和尺寸较大,不利于飞机挂载。

发明内容

有鉴于此,本发明创造旨在提出一种提高平台稳定精度的两轴两框架稳定平台瞄准线精度补偿方法

为达到上述目的,本发明创造的技术方案是这样实现的:

一种两轴两框架稳定平台瞄准线精度补偿方法,包括步骤如下:

(1)采集稳定平台陀螺信号,计算两轴两框架稳定平台在基座扰动下产生的干扰角速度;

(2)根据步骤(1)得出的结果,令所述的干扰角速度的俯仰坐标系和方位坐标系的干扰角速度为0,得出稳定时电机输出角速度计算公式;

(3)根据(2)所述的计算公式、速率陀螺敏感到的速度和载机干扰角速度,得出电机偏转角速度推导公式;

(4)结合步骤(2)和(3)公式、带入陀螺敏感到的干扰速度量,计算电机偏转角速度。

进一步,步骤(1)还包括计算方位框架干扰角速度ωa,以Y轴为俯仰轴、Z轴为方位轴、X轴为横滚轴,OXEYEZE为载机坐标系,OXaYaZa为方位坐标系;设载机坐标系为参考坐标系,方位坐标系方位轴Za与载机坐标系方位轴ZE同轴,ωE为载机角速度,θa为方位框架绕方位轴旋转角,为方位框架自身转动时的受控角速度;则载机角速度对方位框架的耦合,方位框架干扰角速度ωa

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