[发明专利]曝光机

权利要求书

1.一种曝光机，其特征在于，包括曝光腔室(190)、以及设置于所述曝光腔室(190)外的光源灯室(110)、照明系镜组(120)、及透明防护罩(180)；

所述透明防护罩(180)包围所述光源灯室(110)和照明系镜组(120)，为所述光源灯室(110)和照明系镜组(120)提供一隔离外部环境的空间；

所述透明防护罩(180)与第一气体输送管道(170)连接并相通，所述第一气体输送管道(170)向所述透明防护罩(180)内输送气体从而对所述光源灯室(110)和照明系镜组(120)进行冷却处理；

所述透明防护罩(180)的材料为防静电材料且不含有硅元素。

2.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述透明防护罩(180)的材料为聚氯乙烯。

3.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述透明防护罩(180)的形状为长方体形。

4.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述第一气体输送管道(170)向所述透明防护罩(180)内输送的气体为经过过滤处理后的气体。

5.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述光源灯室(110)上设有第一抽气装置(111)，所述第一抽气装置(111)抽取所述第一气体输送管道(170)向所述透明防护罩(180)内输送的气体对所述光源灯室(110)和照明系镜组(120)进行冷却处理。

6.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述光源灯室(110)包括高压汞灯(112)、及罩设于所述高压汞灯(112)上的透明灯罩(113)；

所述照明系镜组(120)设置于所述曝光腔室(190)和光源灯室(110)之间并与所述光源灯室(110)相连接；

其中，所述光源灯室(110)和照明系镜组(120)共同用于提供一光束。

7.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，为投影式曝光机，所述曝光腔室(190)内设有掩模(130)、设于所述掩模(130)下方的投影光学镜组(140)、及设于所述投影光学镜组(140)下方的用于承载基板的工作台(150)；

其中，所述掩模(130)具有图案信息，所述投影光学镜组(140)用于产生包含该图案信息的出射光对其下方的承载于工作台(150)上的基板进行曝光。

8.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述曝光腔室(190)与第二气体输送管道(160)连接并相通，所述第二气体输送管道(160)向所述曝光腔室(190)内输送气体从而对所述曝光腔室(190)内进行冷却处理。

9.如权利要求8所述的曝光机，其特征在于，所述曝光腔室(190)内设有第二抽气装置，所述第二抽气装置抽取第二气体输送管道(160)向所述曝光腔室(190)内输送的气体对所述曝光腔室(190)内进行冷却处理。