[发明专利]一种晶圆测试中动态修改参数达到提高良率的方法在审
申请号: | 201710701787.8 | 申请日: | 2017-08-16 |
公开(公告)号: | CN107505558A | 公开(公告)日: | 2017-12-22 |
发明(设计)人: | 顾春华;汤雪飞;季海英;顾良波;王锦 | 申请(专利权)人: | 上海华岭集成电路技术股份有限公司 |
主分类号: | G01R31/28 | 分类号: | G01R31/28 |
代理公司: | 上海海贝律师事务所31301 | 代理人: | 范海燕 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 测试 动态 修改 参数 达到 提高 方法 | ||
1.一种晶圆测试中动态修改参数达到提高良率的方法,其特征在于:包括如下步骤:
S10:以若干颗的DIE的数据为样本;
S20:在ATE中进行相关设置;
S30:进行DIE样本的测试;
S40:判断测试结果;
S50:根据对S40的判断确定是否需要对ATE中的程序进行修改。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆测试中动态修改参数达到提高良率的方法,其特征在于:S20中的包括设置DIE测试fail时的BIN号以及设置需要修改的测试参数初始值。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆测试中动态修改参数达到提高良率的方法,其特征在于:S50中的具体的判定方式为:若设置DIE在fail时的BIN号的失效率满足要求,则不需要进行参数的更改,整个测试结束;若设置DIE在fail时的BIN号的失效率不满足要求,则更改参数并重新返回执行S30-S50的步骤,直到测试结果符合,整个测试结束。
4.根据权利要求2所述的一种晶圆测试中动态修改参数达到提高良率的方法,其特征在于:设置的参数可以为测试时的电压、电流或是其他能涉及到提高良率的参数。
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