[发明专利]交叉偏振转换光学器件及其设计方法有效

专利信息
申请号: 201710690812.7 申请日: 2017-08-14
公开(公告)号: CN107505705B 公开(公告)日: 2019-12-27
发明(设计)人: 张岩;赵欢 申请(专利权)人: 首都师范大学
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B27/28;G02B5/30
代理公司: 11309 北京亿腾知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 陈霁
地址: 100048 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 交叉 偏振 转换 光学 器件 及其 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种交叉偏振转换光学器件的设计方法,其特征在于,所述设计方法包括:

固定介质层与“C”结构金属层的各参数不变,根据法珀共振理论计算金属光栅层的光栅周期与光栅宽度;

固定所述金属光栅层与所述“C”结构金属层的各参数不变,根据法珀共振理论计算所述介质层的厚度;

固定所述金属光栅层和所述介质层的各参数不变,根据法珀共振理论计算所述“C”结构单元的外半径、内半径、起始角度和终止角度;

调节所述“C”结构单元的外半径、内半径、起始角度或终止角度,各为多个不同值时,选择一组具有离散相位的“C”结构单元;

利用所述一组具有离散相位的“C”结构单元,设计所述“C”结构金属层的二维阵列;

由所述金属光栅层、所述介质层和所述“C”结构金属层组成所述交叉偏振转换光学器件,所述交叉偏振转换光学器件用于将入射的x偏振光转换成y偏振光。

2.如权利要求1所述的设计方法,其特征在于,所述x偏振光的频率为0.75THz。

3.如权利要求1所述的设计方法,其特征在于,所述“C”结构金属层的材质采用金;所述介质层的材质采用硅半导体;所述金属光栅层的材质采用金。

4.如权利要求3所述的设计方法,其特征在于,所述固定介质层与“C”结构金属层的各参数不变,根据法珀共振理论计算金属光栅层的光栅周期与光栅宽度步骤中,计算得到所述金属光栅层的光栅周期为Λ=10μm,光栅宽度为w=4μm。

5.如权利要求3所述的设计方法,其特征在于,所述固定所述金属光栅层与所述“C”结构金属层的各参数不变,根据法珀共振理论计算所述介质层的厚度的步骤中,计算得到所述介质层的厚度为80μm。

6.如权利要求3所述的设计方法,其特征在于,所述固定所述金属光栅层和所述介质层的各参数不变,根据法珀共振理论计算所述“C”结构单元的外半径、内半径、起始角度和终止角度的步骤包括:选择所述“C”结构单元的厚度为40nm,计算得到所述“C”结构单元的外半径为R=35μm、内半径为r=25μm、起始角度为θstart=50°,终止角度为θstop=0°。

7.如权利要求1所述的设计方法,其特征在于,所述调节所述“C”结构单元的外半径、内半径、起始角度或终止角度,各为多个不同值时,选择一组具有离散相位的“C”结构单元的步骤包括:根据法珀共振理论,选择8个不同的“C”结构单元,以使产生的8种y偏振光的振幅相同,相位变化以45度为梯度。

8.如权利要求1所述的设计方法,其特征在于,所述利用所述一组具有离散相位的“C”结构单元,设计所述“C”结构金属层的二维阵列的步骤包括:设定二维阵列的排布为方形阵列,包括128*128个所述“C”结构单元,相邻两个所述“C”结构单元的中心间距为80μm。

9.如权利要求1所述的设计方法,其特征在于,所述由所述金属光栅层、所述介质层和所述“C”结构金属层组成所述交叉偏振转换光学器件的步骤中,所述交叉偏振转换光学器件为全息成像器件。

10.如权利要求1所述的设计方法,其特征在于,所述由所述金属光栅层、所述介质层和所述“C”结构金属层组成所述交叉偏振转换光学器件的步骤中,所述交叉偏振转换光学器件为聚焦透镜。

11.一种如权利要求1所述的设计方法设计的交叉偏振转换光学器件,其特征在于,所述交叉偏振转换光学器件包括:

“C”结构金属层,包括二维阵列,由具有离散相位的多个“C”结构单元组成;

介质层;

金属光栅层;

所述交叉偏振转换光学器件用于将入射的x偏振光转换成y偏振光。

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