[发明专利]一种彩膜基板及显示装置在审

专利信息
申请号: 201710644284.1 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN107229155A 公开(公告)日: 2017-10-03
发明(设计)人: 李冬泽;陈黎暄 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/13357
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 代理人: 钟子敏
地址: 518006 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 彩膜基板 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示领域,特别是涉及一种彩膜基板及显示装置。

背景技术

随着科技的发展和社会的进步,人们对于信息交流和传递等方面的依赖程度日益增加。而显示器件特别是LCD作为信息交换和传递的主要载体和物质基础,已经成为越来越多人关注的焦点,并广泛应用在工作和生活的方方面面。根据科学规律,一项事物的更新换代速度受其关注度和使用率的影响十分显著,显示技术在这个信息爆炸的时代,需要有着“日新月异”的更新速度。

在过去的几十年,LCD一直作为显示的代名词,而近年来OLED电致发光、激光显示,Micro LED等新颖的显示技术频出,大有取而代之的趋势。在此背景下,LCD也有在不断更新换代,利用新技术新设计来弥补自身不足,QDs(Quantum Dots量子点材料)就是其中最为有益的尝试之一,由于QDs材料本身所具有的高色纯度、光谱连续可调等优异性质,使其成为21世纪最为优秀的发光材料,可以在显示色域上大幅度提高现有LCD的色彩表现,因此近年来其与显示相结合的应用被广泛研究。

QDCF作为其中主流的应用之一,主要是利用QD的光转换特性,将高能区的背光(Blue)转换成可控的三色子像素。然而由于QDs虽然是最为优异的发光材料之一,但是其光转换效率依然无法达到100%,这也就意味着三色子像素的搭配存在白点偏离的可能。由于R、G子像素中光转换效率并不是100%,因此若采用相同面积的子像素设计,则显示画面白点偏移,会由于蓝光过度而产生的色调偏冷的现象。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种彩膜基板及显示装置,避免白点偏移、蓝光过度而产生色调偏冷的现象。

为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种彩膜基板,所述彩膜基板包括基板以及形成在所述基板上的黑色矩阵层、彩膜层、有机保护膜层;所述彩膜层包括多个像素单元,每个所述像素单元包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素至少一种;其中,所述蓝色子像素的面积小于所述红色子像素的面积,也小于所述绿色子像素的面积。

为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是:提供一种显示装置,所述显示装置包括蓝色光源和彩膜基板,所述彩膜基板包括基板以及形成在所述基板上的黑色矩阵层、彩膜层、有机保护膜层;所述彩膜层包括多个像素单元,每个所述像素单元包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素至少一种;其中,所述蓝色子像素的面积小于所述红色子像素的面积,也小于所述绿色子像素的面积。

本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况,本发明通过改变子像素的面积,将蓝色子像素的面积调到最小,使白点始终在标准范围内,避免了蓝色过多产生的画面偏冷问题。

附图说明

图1是本发明彩膜基板一实施例的剖面图;

图2是图1彩膜基板一具体实施子像素排布方式示意图;

图3是图1彩膜基板另一具体实施子像素排布方式示意图;

图4是图1彩膜基板再一具体实施子像素排布方式示意图;

图5是本发明显示装置第一实施例结构剖面示意图;

图6是本发明显示装置第二实施例结构剖面示意图;

图7是本发明显示装置第三实施例结构剖面示意图。

具体实施方式

参阅图1,图1是本发明彩膜基板一实施例的剖面图。如图1所示,彩膜基板100包括基板110以及形成在基板110上的黑色矩阵层120、彩膜层130、有机保护膜层140;彩膜层130包括多个像素单元,每个所述像素单元包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素至少一种;蓝色子像素的面积小于红色子像素的面积,也小于绿色子像素的面积。

其中,基板110一般是玻璃基板或塑料基板,也可以采用其他透明材料。

为了清楚说明图1彩膜基板子像素的排布状况,进一步地参见图2,图2是图1彩膜基板一具体实施子像素排布方式示意图。

如图2所示,彩膜层23包括多个像素单元231,每个像素单元231包括红色子像素2311、绿色子像素2312和蓝色子像素2313至少一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710644284.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top