[发明专利]光纤阵列线路发生器

权利要求书

1.一种基板处理设备，包括：

多个光纤耦合激光二极管；

第一透镜，所述第一透镜靠近所述光纤耦合激光二极管的远端设置；

圆柱微透镜阵列，所述圆柱微透镜阵列靠近所述第一透镜设置，以用于散焦从所述光纤的所述远端传播出的光；

第二透镜，所述第二透镜靠近所述圆柱微透镜阵列设置；

场光阑，所述场光阑靠近所述第二透镜设置；及

第三透镜，所述第三透镜靠近所述场光阑设置，其中所述第二透镜将经散焦的所述光成像到所述场光阑上并且所述第三透镜将由所述场光阑布置的经散焦的所述光再产生于工作表面上。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述多个光纤耦合激光二极管中的每个光纤耦合激光二极管包括：

激光二极管；及

光纤，所述光纤光学耦合至所述激光二极管。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述圆柱微透镜阵列包括多个圆柱透镜。

4.如权利要求3所述的设备，其中所述圆柱微透镜阵列的每个透镜与所述多个光纤耦合激光二极管的所述光纤中的一个光纤光学耦合。

5.如权利要求1所述的设备，其中所述第一透镜是圆柱透镜。

6.如权利要求1所述的设备，其中所述圆柱微透镜阵列设置在所述第一透镜和所述第二透镜之间。

7.如权利要求6所述的设备，其中，所述场光阑设置在所述第二透镜和所述第三透镜之间。

8.如权利要求6所述的设备，其中所述圆柱微透镜阵列设置在所述第一透镜的焦距处。

9.如权利要求7所述的设备，其中所述场光阑设置在所述第二透镜的焦距处。

10.一种基板处理设备，包括：

多个光纤耦合激光二极管；

第一透镜，所述第一透镜靠近所述光纤耦合激光二极管的远端设置；

圆柱微透镜阵列，所述圆柱微透镜阵列设置在所述第一透镜的焦距处，以用于散焦从所述光纤的所述远端传播出的光；

第二透镜，所述第二透镜靠近所述圆柱微透镜阵列设置；

场光阑，所述场光阑设置在所述第二透镜的焦距处；及

第三透镜，所述第三透镜靠近所述场光阑设置，其中所述第一透镜是圆柱透镜，并且其中所述第二透镜将经散焦的所述光成像到所述场光阑上并且所述第三透镜将由所述场光阑布置的经散焦的所述光再产生于工作表面上。

11.如权利要求10所述的设备，其中所述多个光纤耦合激光二极管中的每个光纤耦合激光二极管包括：

激光二极管；及

光纤，所述光纤光学耦合至所述激光二极管。

12.如权利要求11所述的设备，其中所述圆柱微透镜阵列的每个透镜与所述多个光纤耦合激光二极管的所述光纤中的一个光纤光学耦合。

13.一种基板处理设备，包括：

多个光纤耦合激光二极管，其中所述多个光纤耦合激光二极管中的每个光纤耦合激光二极管包括：

激光二极管；及

光纤，所述光纤光学耦合至所述激光二极管；

v形槽定位元件，所述v形槽定位元件设置在所述多个光纤耦合激光二极管的远端处，其中用于每个激光二极管的光纤设置在所述v形槽定位元件中；

第一透镜，所述第一透镜靠近所述多个光纤耦合激光二极管的远端设置；

圆柱微透镜阵列，所述圆柱微透镜阵列靠近所述第一透镜设置，以用于散焦从所述光纤的所述远端传播出的光；

第二透镜，所述第二透镜靠近所述微透镜阵列设置；

场光阑，所述场光阑靠近所述第二透镜设置；及

第三透镜，所述第三透镜靠近所述场光阑设置，并且其中所述第二透镜将经散焦的所述光成像到所述场光阑上并且所述第三透镜将由所述场光阑布置的经散焦的所述光再产生于工作表面上。