[发明专利]一种用于热处理制程的支撑装置

权利要求书

1.一种用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，包括：

用以支撑被支撑元件的支架，所述支架的顶部表面设有多个凸起的支撑点；

用以防止所述被支撑元件在热制程过程中偏移所述支架的套环组件，所述套环组件包括：可旋转的连接在所述支架所设置的一支点上的旋转架、自所述旋转架的一侧延伸而设用以感应所述被支撑元件与所述支架接触状况的第一摆动件以及自所述旋转架的另一侧延伸而设与所述第一摆动件联动的第二摆动件，其中：

所述被支撑元件触碰所述第一摆动件以所述支点为轴心在沿垂直于所述支架延伸方向的平面上旋转，所述第一摆动件通过所述旋转架联动所述第二摆动件摆动，用以拨动所述被支撑元件至所述支架的预定位置；

所述第二摆动件的端部设有水平位置高于所述支点的用以拨动所述被支撑元件至所述支架预定位置的拨动板。

2.如权利要求1所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述第一摆动件的端部设有水平位置高于所述支点和所述支撑点的触碰端，所述被支撑元件抵压所述触碰端使所述第一摆动件旋转。

3.如权利要求2所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述第一摆动件呈L形。

4.如权利要求1所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述第二摆动件呈n形。

5.如权利要求1或4所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述第二摆动件及所述拨动板的质量总和大于所述第一摆动件的质量。

6.如权利要求5所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述被支撑元件的质量大于所述第一摆动件、所述第二摆动件及所述拨动板的质量总和。

7.如权利要求1所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述支架设为规则排列的多根，多根支架等距均匀排列，所述套环组件分别设置在位于端部的两根支架上。

8.如权利要求7所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，两根支架上的套环组件对称布置。

9.如权利要求1所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述套环组件使用与所述支架相同的材料制成。