[发明专利]自动换靶装置的使用方法

说明书

本发明公开了一种自动换靶装置，应用于电子束蒸发镀膜设备，包括以下步骤：(1)实时推进靶材：当蒸镀工艺在进行时，推进机构根据第二感应器的数据由控制单元控制实时自动的通过第二伺服电机带动推进平台将靶容器内的靶材根据蒸镀工艺的消耗量实时向上推进；(2)自动换靶材：由第三伺服电机带动靶材盘旋转，将靶材盘上另一个有靶材的第二靶材腔转动到靶容器的正下方与靶容器的圆柱形空腔精确地相重合，推进平台则上移至第二靶材腔的靶材的正下方托住靶材，然后卡门打开，推进平台则继续上移将靶材推进至靶容器内且与靶容器内的靶材紧密结合，推进机构则停止；(3)向靶材盘内推入替换靶材。

技术领域

本发明属于机械技术领域，尤其是涉及一种自动换靶装置的使用方法。

背景技术

薄膜技术在工业上得到广泛的应用，特别是在电子材料、磁性材料和元器件工业领域中占有极为重要的地位，因此，制备各种性能的薄膜的方法在最近几十年中也得到了飞跃发展。

现有的电子束蒸发设备一般使用时用完一个靶材需要打开真空镀膜腔室进行靶材的更换，而在大量使中则需要频繁更换靶材，由于真空腔室的开启和抽真空需要一定的时间，会造成时间成本增加，这样的话会影响蒸镀的效率，不利于大批量的生产；且分子泵频繁的使用，会减少其寿命；同时经常打开真空腔室会造成灰尘等杂质进入真空腔室，从而影响真空镀膜质量。

因此，有必要研发出一种结构新颖、镀膜效率高、容易控制基于电子束蒸发设备的自动换靶装置的使用方法。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种结构新颖、镀膜效率高、容易控制的基于电子束蒸发设备的自动换靶装置。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是，该基于电子束蒸发设备的自动换靶装置包括升降机构和位于真空镀膜腔内的靶容器，还包括备用靶材腔、真空泵和控制单元，所述备用靶材腔设置在所述真空镀膜腔外且位于所述靶容器的下方，所述备用靶材腔与所述真空镀膜腔相连接，且中间设有阀门以隔离或连通；所述升降机构贯穿所述备用靶材腔、真空镀膜腔与所述靶容器的底部相连接；所述升降机构用于在进行蒸镀工艺时将靶材实时根据靶材的消耗量向上移动靶材和当消耗完一个靶材后将备用靶材腔中的靶材移动至真空镀膜腔内；所述备用靶材腔连接有真空泵，所述备用靶材腔设有腔门，且所述备用靶材腔连接有真空泵和气阀；所述控制单元包括升降控制单元和真空控制单元；所述升降控制单元与所述升降机构相连接；所述真空控制单元与所述机械泵、真空泵和气阀相连接。采用上述技术方案，通过设置自动升降机构和备用靶材腔可以实现在进行蒸镀工艺时将靶材实时根据靶材的消耗量向上移动靶材，同时当消耗完一个靶材后将备用靶材腔中的靶材移动至真空镀膜腔内；这样便实现了不用打开真空镀膜腔室也可以给其添加新的靶材，这样节省了时间，提高了蒸镀工艺，同时提高镀膜的质量，备用靶材腔内设有容纳升降机构的空间。

本发明进一步改进在于，所述升降机构包括上推机构和推进机构，所述上推机构包括第一伺服电机、上推平台和第一感应器；所述第一伺服电机通过第一丝杆与所述上推平台相连接，所述第一感应器设置在所述备用靶材腔内用于感应所述上推平台上是否的靶材；所述推进机构包括第二伺服电机、推进平台和第二感应器；所述第二伺服电机通过第二丝杆与所述推进平台相连接，所述第二感应器设置在所述靶容器内用于检测靶容器内的靶材。