[发明专利]一种背光模组及显示装置在审

专利信息
申请号: 201710588245.4 申请日: 2017-07-18
公开(公告)号: CN107132697A 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 王雪绒;禹璐;马俊杰;陈雷;高斐 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357;G02F1/1334
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 代理人: 贾莹
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 背光 模组 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种背光模组及显示装置。

背景技术

近年来,HDR(High-Dynamic Range,高动态光照渲染)技术的发展,再次掀起了区域调光(Local Dimming)技术在显示装置上应用浪潮,随着用户对显示画质技术的追求,采用上述区域调光技术,可以使得显示图像具备具有更多的明暗动态范围和图像细节,从而能够给用户呈现更高画质效果的图像。然而,现有技术中,为了实现上述区域调光技术,通常需要对背光源中的LED灯单独进行调节。这样一来,在反复调节的过程中容易使得LED灯发生损坏,降低背光源的使用寿命。

发明内容

本发明的实施例提供一种背光模组及显示装置,能够在实现区域调光的过程中,避免反复对LED灯进行调节。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

本发明实施例的一方面,提供一种背光模组,包括光源组件、设置于所述光源组件出光侧的光照渲染膜;所述光照渲染膜包括多个呈矩阵形式排列调光单元;所述调光单元用于接收调光信号,并根据所述调光信号改变该调光单元的透过率。

优选的,所述调光单元包括相对设置的第一电极和第二电极,以及位于所述第一电极和所述第二电极之间的透过率调节层;所述第一电极和所述第二电极用于根据所述调光信号产生控制所述透过率调节层雾度的电场。

进一步优选的,所述透过率调节层包括聚合物分散液晶层。

或者,进一步优选的,所述透过率调节层包括聚合物稳定液晶层,以及位于所述聚合物稳定液晶层两侧的取向层。

或者,进一步优选的,所述透过率调节层包括液晶层以及位于所述液晶层两侧的取向层。

优选的,所述聚合物分散液晶层的厚度为120μm±5μm。

优选的,所述光照渲染膜还包括覆盖所述第一电极和/或所述第二电极的绝缘保护层。

优选的,所述光源组件包括导光板以及位于所述导光板至少一个侧面的光源。

优选的,所述光源组件还包括位于所述导光板出光侧的扩散片、至少一层棱镜片,以及位于所述导光板导光面所在一侧的反射片。

优选的,所述光源组件包括设置于背板上的光源阵列、依次位于所述光源阵列出光侧的扩散板、至少一层棱镜片。

进一步优选的,所述至少一层棱镜片包括第一棱镜片和第二棱镜片;所述第一棱镜片上的棱镜的延伸方向与所述第二棱镜片上的棱镜的延伸方向垂直。

本发明实施例的另一方面,提供一种显示装置包括如上所述的任意一种背光模组。

本发明实施例提供一种背光模组及显示装置。其中,通过在背光模组中设置具有多个调光单元的光照渲染膜,可以实现区域调光的目的,使得显示图像的细节更加清晰。综上所述,上述区域调光过程,无需对光源组件中的光源进行调整,因此能够避免反复对光源调节,导致光源寿命降低的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种背光模组的结构示意图;

图2为图1中光照渲染膜中各个调光单元的透过率示意图;

图3a为未进行局部调光的显示图像示意图;

图3b为对图3a所示的图像进行高动态光照渲染后的图像;

图4为图1中调光单元的结构示意图;

图5为图1中光照渲染膜的一种结构示意图;

图6为图1中光照渲染膜的另一种结构示意图;

图7为图4中透过率调节层的一种透光状态示意图;

图8为图1中光照渲染膜中各个调光单元的透光状态示意图;

图9为图4中透过率调节层的另一种透光状态示意图;

图10为图4中透过率调节层的一种结构示意图;

图11为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图;

图12为图11中第一棱镜片和第二棱镜片的结构示意图;

图13为本发明实施例提供的另一种显示装置的结构示意图。

附图标记:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710588245.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top