[发明专利]用于处理代表至少一个光晕的图像的方法和控制设备以及摄像系统有效
申请号: | 201710584940.3 | 申请日: | 2017-07-18 |
公开(公告)号: | CN107631962B | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | S·勒诺;U·施托普尔 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | G01N15/00 | 分类号: | G01N15/00;G01N15/02;G01N15/14;G06T5/00;G06T7/00;H04N5/232 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 郭毅 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 处理 代表 至少 一个 光晕 图像 方法 控制 设备 以及 摄像 系统 | ||
1.一种用于处理代表至少一个光晕(102;202;302;1002)的图像(408)的方法(900),其中,所述方法(900)包括以下步骤:
通过至摄像装置(402)的接口(412)读取(910)所述图像(408);
在使用所述图像(408)的情况下求取(920)代表所述光晕(102;202;302;1002)的强度分布;
分析(930)所述强度分布,以便将所述摄像装置(402)的检测范围中的颗粒物的面状颗粒物分布确定为所述光晕(102;202;302;1002)的起因。
2.根据权利要求1所述的用于处理代表至少一个光晕(102;202;302;1002)的图像(408)的方法(900),其中,在所述分析(930)的步骤中,通过根据配属于所述面状颗粒物分布的第一类别和配属于颗粒物的体状颗粒物分布的第二类别对所述强度分布进行分类来确定所述光晕(102;202;302;1002)的起因。
3.根据权利要求1或2所述的用于处理代表至少一个光晕(102;202;302;1002)的图像(408)的方法(900),其中,在所述求取(920)的步骤中,取决于与配属于所述光晕(102;202;302;1002)的光源(406)的径向距离(r)来求取所述强度分布。
4.根据权利要求3所述的用于处理代表至少一个光晕(102;202;302;1002)的图像(408)的方法(900),其具有从所述强度分布中提取(935)至少一个处理信息(645)的步骤,其中,在所述分析(930)的步骤中,分析所述处理信息(645),以便将所述面状颗粒物分布确定为所述光晕(102;202;302;1002)的起因。
5.根据权利要求4所述的用于处理代表至少一个光晕(102;202;302;1002)的图像(408)的方法(900),其中,在所述提取(935)的步骤中,提取代表取决于所述径向距离(r)的所述强度分布的至少一个径向强度特性作为所述处理信息(645)。
6.根据权利要求1或2所述的用于处理代表至少一个光晕(102;202;302;1002)的图像(408)的方法(900),其中,在所述分析(930)的步骤中,当所述强度分布具有主极大值(HM)和至少一个副极大值(NM)时,确定所述面状颗粒物分布作为所述光晕(102;202;302;1002)的起因。
7.根据权利要求6所述的用于处理代表至少一个光晕(102;202;302;1002)的图像(408)的方法(900),其具有取决于所述强度分布来确定(960)所述面状颗粒物分布的颗粒物的颗粒物大小和/或颗粒物大小分布的步骤。
8.根据权利要求7所述的用于处理代表至少一个光晕(102;202;302;1002)的图像(408)的方法,其中,在所述确定(960)的步骤中,取决于所述主极大值(HM)与所述副极大值(NM)之间的距离来确定所述颗粒物大小和/或取决于所述主极大值(HM)和/或所述副极大值(NM)的宽度来确定所述颗粒物大小分布。
9.根据权利要求1或2所述的用于处理代表至少一个光晕(102;202;302;1002)的图像(408)的方法(900),其具有检测在预给定的时间段上的分析(930)的结果以便获得所述分析(930)的结果的统计数据的步骤,其中,在稳健化(940)的步骤中,在使用所述统计数据的情况下使所述分析(930)稳健化。
10.根据权利要求1或2所述的用于处理代表至少一个光晕(102;202;302;1002)的图像(408)的方法(900),其中,在所述求取(920)的步骤中,在使用所述图像(408)的情况下,还求取代表所述光晕(102;202;302;1002)的波长分布,其中,在所述分析(930)的步骤中,还分析所述波长分布,以便将所述面状的颗粒物分布确定为所述光晕(102;202;302;1002)的起因。
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