[发明专利]一种石英坩埚涂层及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种石英坩埚涂层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

（1）在坩埚涂层的喷涂液中，加入烧结助剂，混合充分，然后喷涂于坩埚内表面上，形成涂层；

（2）待涂层干燥后，对带有涂层的坩埚内表面进行加热，使其形成致密涂层。

2.根据权利要求1所述的石英坩埚涂层的制备方法，其特征在于：步骤（1）中，所述烧结助剂为氧化硅、氧化铝、氧化锂、或稀土元素的氧化物的一种或多种的混合，或者为在高温下能够分解生成这些物质的氢氧化物或碳酸化合物。

3.根据权利要求1或2所述的石英坩埚涂层的制备方法，其特征在于：所述烧结助剂的形态为粉体，其纯度为99%-99.999%，粒度为100nm-1mm。

4.根据权利要求3所述的石英坩埚涂层的制备方法，其特征在于：所述烧结助剂的添加量为喷涂液的0.5-50wt%。

5.根据权利要求1所述的石英坩埚涂层的制备方法，其特征在于：步骤（2）中，带有涂层的坩埚内表面的加热方式为电弧加热或者电阻丝加热。

6.根据权利要求5所述的石英坩埚涂层的制备方法，其特征在于：加热温度为600-1700℃，时间在60min之内。

7.根据权利要求1所述的石英坩埚涂层的制备方法，其特征在于：步骤（2）中，直接向坩埚内装填硅料，并将其放入晶体生长炉内进行加热融化和降温凝固，直接利用晶体生长过程中的热量，对坩埚涂层进行加热并形成致密涂层。

8.一种权利要求1-7所述的方法制备得到的石英坩埚涂层。

9.权利要求8所述的石英坩埚涂层用于多晶硅铸锭的用途。

10.根据权利要求9所述的用途，其特征在于：将所述石英坩埚涂层喷涂于不完全致密的熔融石英陶瓷坩埚，或者致密的石英玻璃坩埚的内表面。