[发明专利]一种具有隔离结构的橡胶/石墨烯复合材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710570062.X 申请日: 2017-07-13
公开(公告)号: CN107236165B 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: 管新兵;占宏君;吴龙梅;李凯杰;何俊杰;陈文宁;韩琪 申请(专利权)人: 上海通茗检测技术服务有限公司
主分类号: C08L9/08 分类号: C08L9/08;C08L13/02;C08K13/06;C08K3/22;C08K5/09;C08K9/04;C08K7/00
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 孔凡亮
地址: 200436 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 隔离 结构 橡胶 石墨 复合材料 制备 方法
【说明书】:

本发明公开一种具有隔离结构的橡胶/石墨烯复合材料的制备方法,所述方法包括:在超声波作用下,以阳离子聚电解质为分散剂和表面改性剂,对石墨烯进行表面功能化处理;通过石墨烯表面吸附水溶性的阳离子聚电解质,制备得到分散均匀的功能化石墨烯悬浮液。然后,将功能化石墨烯与羧基丁苯胶乳和丁苯胶乳的混合胶乳进行均匀共混,其中,功能化石墨烯能够选择性与羧基丁苯胶乳粒子发生静电吸附作用和氢键作用,促使两者组装形成隔离结构;并通过丁苯胶乳粒子的体积排除效应,有效地实现石墨烯选择性分散于羧基丁苯橡胶相中,最后直接热压制备得到具有连续隔离结构的丁苯橡胶/石墨烯复合材料。这为制备低渗流阈值、加工性能和综合性能良好的导电橡胶复合材料提供了新的思路。

技术领域

本发明涉及一种具有隔离结构的橡胶/石墨烯复合材料的制备方法,属于高分子材料应用领域。

背景技术

聚合物导电复合材料由于其在传感器、导体、电磁屏蔽材料和光伏器件等领域具有潜在的应用前景,引起了广泛的学术关注和应用性研究。

目前,提高聚合物复合材料导电性能的主要方法是填充大量的导电填料,如炭黑、碳纳米管,石墨烯等,一般需要较高的导电填料用量才能构建连续的、有效的导电通路。如中国专利CN102746663B中,导电炭黑用量占7~10%;中国专利CN101851383B中,碳基导电填料用量占10~15%。因此,大量导电填料的加入将严重影响复合材料的力学性能和加工性能等。

为了能够显著降低复合材料的导电填料用量,有效调控导电填料在聚合物基体中的分散,设计和构建高效的、连续的隔离型导电网络是目前制备高性能导电聚合物复合材料的有效途径,并引起了大量的研究和关注。中国专利CN105647017A制备了具有连续隔离结构的聚乙烯/碳黑复合材料,其导电渗流阈值为0.37vol%。中国专利CN104530521B报道了一种聚丙烯/聚乙烯/碳纳米管复合材料,其导电填料的用量约为1~5vol%。因此,具有连续隔离结构的导电聚合物复合材料,其具有低导电填料用量(低渗流阈值),并保持较高的导电性能和较为优异的力学性能和加工性能。在以上的塑料体系中,由于塑料粒子的体积排除效应,通过简单熔融共混即可有利于将导电填料调控分散于界面处而形成隔离网络;而对于具有高粘弹特性的橡胶材料,无法采用此类工艺实现结构调控。同时,由于导电填料与橡胶基体之间界面作用较差,很难构建具有隔离结构的导电橡胶复合材料,极大地限制了导电橡胶复合材料的工业化应用。因此,在不牺牲复合材料力学性能的前提下,发展一种简单有效的工艺制备具有较为完善的隔离网络结构的低渗流阈值、高导电性能复合材料是目前迫切需要解决的问题。

发明内容

本发明首先以阳离子型聚电解质为分散剂和改性剂,辅助超声分散制备分散均匀的功能化石墨烯悬浮液,然后利用静电组装作用,制备具有连续隔离结构的丁苯橡胶/石墨烯复合材料。

本发明首先在超声波作用下,以阳离子聚电解质为分散剂和表面改性剂,进行石墨烯表面功能化处理,通过石墨烯表面吸附水溶性的阳离子聚电解质,制备得到分散均匀的功能化石墨烯悬浮液。然后,将功能化石墨烯与羧基丁苯胶乳和丁苯胶乳的混合胶乳进行均匀共混,其中,功能化石墨烯能够选择性与羧基丁苯胶乳粒子发生静电吸附作用和氢键作用,促使两者组装形成隔离结构,并有效地实现丁苯胶乳的絮凝沉降,最后直接热压制备得到具有连续隔离结构的丁苯橡胶/石墨烯复合材料。

本方案目的通过以下方案来实现:一种具有隔离结构的橡胶/石墨烯复合材料的制备方法,包括以下具体步骤:

(1)制备功能化石墨烯悬浮液:取质量比为1:0.5~2.5石墨烯和阳离子聚电解质,超声分散1~3h后,离心、洗涤,并重新超声分散得到均匀的功能化石墨烯悬浮液;

(2)制备丁苯橡胶/石墨烯复合物:将功能化石墨烯超声分散于质量比为1:1~9的羧基丁苯胶乳和丁苯胶乳的混合胶乳中,并加入橡胶配合剂分散体,通过超声搅拌分散工艺,得到白色的丁苯橡胶/石墨烯复合物,橡胶配合剂分散体为氧化锌3g、硬脂酸2g、促进剂CZ 1.5g、促进剂DM 0.5g、硫磺1.5g和100ml水;

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