[发明专利]一种反力外引机构、电机装置以及光刻机

说明书

本发明公开了一种反力外引机构、电机装置以及光刻机，该光刻机包括照明单元、掩模台、投影物镜、主基板、工件台和地基，所述照明单元和掩模台设于所述主基板上，所述地基上方设有主吊框，所述工件台和主基板设于所述主吊框上，所述主吊框和地基之间设有减振器，所述工件台的其中一侧与所述地基之间以及所述掩模台的其中一侧与所述地基之间分别设有反力外引机构。通过在工件台和掩模台的其中一侧设置反力外引机构，将该两个运动台运动方向的反力引到地基上，而不将地基的振动传到运动台上，减少了反力造成整机振动；大大降低了整机框架及运动台系统的设计制造难度，提高了运动台的控制精度，有效降低了减振器的需求，降低了开发难度以及开发成本。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种反力外引机构、电机装置以及光刻机。

背景技术

光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模版上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。

光刻机中的硅片台主要作用为承载硅片、并携带硅片在投影物镜下完成与掩模台相匹配的曝光运动。当硅片台和掩模台在整机内部框架之内时，两个运动台的运动反力将直接作用于内部框架，从而造成整个内部框架的振动加剧，如果其振动指标超过整机的性能约束将不能进行正常的曝光工作。

针对上述问题，现有技术中将运动台电机定子放在外部框架，运动台曝光时所产生的反作用力将直接通过与外部框架的连接作用于外部框架，从而减少对光刻机内部框架的冲击影响。然而该种方案对整机框架和运动台的结构设计均提出较高的要求，提高了运动台与整机的集成工艺复杂度。

现有技术中还提出了一种光刻机运动台反力抵消装置及应用其的光刻机，该方案直接将反力机构与内部框架相连接，在运动台和减震器之间没有解耦机构，在反力抵消的过程中，容易带入地基振动，直接影响运动台的运动精度，且反力机构安装在工件台两侧，占地空间大，对其它分系统的布局和维修维护都有一定影响。

发明内容

本发明提供了一种反力外引机构、电机装置以及光刻机，以解决现有技术中存在的工艺复杂、占地空间大以及影响运动台的运动精度的问题。

为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种反力外引机构，包括依次连接的反力外引支架、反力衰减单元和震动源转接单元，所述震动源转接单元与一震动源相连，所述反力外引支架与地基相连，所述反力外引机构用于将所述震动源的震动力削减。

进一步的，所述反力衰减单元包括连接块、反力外引阻尼单元、反力外引弹簧单元和转接臂，所述连接块与所述支架转接单元连接，所述反力外引阻尼单元的两端分别与所述连接块和所述震动源转接单元连接。

进一步的，所述反力外引弹簧单元通过弹簧导向柱安装于所述连接块上。

进一步的，所述弹簧单元通过预紧安装架安装于所述转接臂上。

本发明还提供了一种装有如上所述反力外引机构的电机装置，包括所述反力外引机构、地基、支撑框架、运动模块，所述反力外引机构与所述运动模块和所述地基相连，减少所述运动模块对所述支撑框架的震动。

进一步的，所述运动模块包括定子和动子，所述反力外引机构与所述定子相连。

本发明还提供了一种光刻机，包括照明单元、掩模台、投影物镜、主基板、工件台和地基，所述照明单元和掩模台设于所述主基板上，所述地基上方设有主吊框，所述工件台和主基板设于所述主吊框上，所述主吊框和地基之间设有减振器，所述工件台的其中一侧与所述地基之间以及所述掩模台的其中一侧与所述地基之间分别设有反力外引机构。

进一步的，所述主基板上设有照明支架，所述照明单元设于所述照明支架上。

进一步的，所述照明支架的侧面设有吸振装置。