[发明专利]曝光机的挡板位置确定方法

说明书

一种曝光机的挡板位置确定方法，本发明通过改变挡板位置确认图形的位置，将其设置在两次曝光子区域的共同边界附近，从而在一次挡板位置确认图形检查过程中，可以同时检查两个子曝光区域的边界。相对于每次检查一个子曝光区域边界的方法，能提高检查效率、降低确认图形的浏览量、缩短检查时间、提高产能。

技术领域

本发明涉及曝光设备技术领域，尤其涉及一种曝光机的挡板位置确定方法。

背景技术

近年来，随着信息通讯领域的迅速发展，对各种类型的显示设备的要求越来越大。其中液晶显示面板(LCD)以其轻、薄、体积小、耗电小、辐射低等优点，逐步发展成主流的显示装置。以液晶驱动模式为TN(Twisted Nematic)为例，液晶显示面板一般包括：滤色基板，薄膜晶体管基板以及两者之间的液晶。其中，滤色基板主要包括：一玻璃基板、位于该玻璃基板上的黑色矩阵层、位于未被黑色矩阵覆盖的玻璃基板上的滤色层、覆盖在黑色矩阵和滤色层上的平坦层、位于平坦层上的间隔柱。

随着液晶显示面板行业的发展，大尺寸基板投入应用，黑色矩阵层、滤色层、间隔柱所占的面积也要求越来越大。现有的黑色矩阵层、滤色层、间隔柱一般采用光阻曝光、显影形成。光阻的图案化制作技术中，普遍采用近接式曝光机实现。由于光阻的面积大，而曝光过程中使用的掩膜板的尺寸有限，因而一般光阻的曝光采用逐块区域曝光。在逐块区域曝光过程中，需对不需曝光区域采用挡板遮挡光源。遮挡光源时，为保证每个区域的曝光范围准确，需确定挡板位置。

现有技术中，挡板位置确定方法为：每块区域曝光时使用的掩膜板在上、下、左、右四条边界的两头分别设置开口，以在曝光同时形成八个确认图形；逐个浏览每个确认图形的完整性，若出现图形缺失，则需调整挡板位置。

实际中，光阻面积越大，所分区域越多，曝光次数越多，造成确认图形的浏览量越大，检查时间越长，效率和产能越低。

有鉴于此，本发明提供一种曝光机的挡板位置确定方法，以克服上述不足。

发明内容

本发明的目的是提供一种曝光机的挡板位置确定方法，能至少能实现以下其中一个优点：确认图形的浏览量小，检查时间短，效率和产能高。

为实现上述目的，本发明提供一种曝光机的挡板位置确定方法，包括：

将基板上的待曝光膜层划分为若干子曝光区域，每一所述子曝光区域的范围小于或等于掩膜板在待曝光膜层上的曝光范围；每个子曝光区域所使用的掩膜板在靠近边界处具有开口，所述边界对应相邻两子曝光区域的共用边界或待曝光膜层中与所述共用边界平行的边界；

使用掩膜板，依次对各子曝光区域曝光，各子曝光区域曝光过程中使用挡板遮光；所述掩膜板的开口在对应子曝光区域进行曝光同时，在该子曝光区域中形成各边界的挡板位置确认图形；之后对基板上的待曝光膜层显影；

检查各子曝光区域中各边界的挡板位置确认图形，其中将共用边界分别位于相邻两子曝光区域中的挡板位置确认图形作为一个整体检查：

若每一子曝光区域中各边界的挡板位置确认图形完整，则各子曝光区域曝光时中各边界的挡板位置均符合要求；

若某个或某几个子曝光区域中某个或某几个边界的挡板位置确认图形不完整，则该个或该几个子曝光区域曝光时某个或某几个边界的挡板位置不符合要求。

可选地，对于挡板位置不符合要求的子曝光区域，记录子曝光区域位置及边界位置，重复下述步骤直至该子曝光区域记录的边界的挡板位置确认图形完整；

提供下一基板，将所述下一基板上的待曝光膜层划分为若干子曝光区域，所述划分方法与上一基板的待曝光膜层划分方法相同；

使用掩膜板，至少对记录的子曝光区域曝光，曝光前调整所记录边界的挡板位置，曝光过程中使用调整后的挡板遮光；之后对曝光后的各子曝光区域一并显影；