[发明专利]一种X射线荧光光谱分析方法在审
| 申请号： | 201710514132.X | 申请日： | 2017-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN107328800A | 公开（公告）日： | 2017-11-07 |
| 发明（设计）人： | 杜亚明 | 申请（专利权）人： | 苏州浪声科学仪器有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 苏州知途知识产权代理事务所(普通合伙)32299 | 代理人： | 张锦波 |
| 地址： | 215100 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 射线 荧光 光谱分析 方法 | ||
1.一种X射线荧光光谱分析方法，其特征在于，
使用XRF样品检测装置，XRF样品检测装置包括，
样品台(41)，中间设置有样品检测孔(411)；
检测仓(40)，密封设置在样品台(41)底部，一侧安装有观察窗(401)；
X射线源(42)，设置在检测仓(40)底部，X射线源(42)的X射线发射管沿竖直方向布置；
探测器(44)，设置在检测仓(40)另一侧，用于探测样品发出的二次X射线；
摄像头(43)，镜头对准观察窗(401)；
准直部件(45)，包括，设置在检测仓(40)外的电机；设置在检测仓(40)底部的导轨(453)；设置导轨(453)上的准直块(451)；准直块(451)上设置有反射镜(4511)和至少一个竖直布置的准直孔(4512)，准直块(451)能够在直线电机(452)的驱动下沿导轨(453)运动；
包括以下步骤：
S1：将样品放置在样品台(41)上，样品对准检测孔(411)；
S2：通过电机调节准直块(451)上的反射镜(4511)位置，使摄像头(43)经反射镜(4511)能拍摄到样品台(41)上样品；
S3：根据摄像头(43)拍摄到的图像调节样品的位置，使样品上的检测区域位于检测孔(411)中心；
S4：通过电机调节准直块(451)位置，使准直块(451)上的准直孔(4512)处于X射线源(42)与检测孔(411)之间，准直孔(4512)为多个时，还需要根据检查区域的大小选择准直孔(4512)的孔径；
S5：启动X射线源(42)和探测器(44)，完成对样品的X射线荧光光谱分析。
2.根据权利要求1所述的X射线荧光光谱分析方法，其特征在于，准直孔(4512)为成一列排布的若干个，准直孔(4512)孔径为0.1mm-5mm之间的任意值，在S4步骤中，还需要根据检查区域的大小选择准直孔(4512)的孔径。
3.根据权利要求2所述的X射线荧光光谱分析方法，其特征在于，准直孔(4512)为7个，孔径分别为0.1mm、0.2mm、0.5mm、1mm、2mm、5mm、5mm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的X射线荧光光谱分析方法，其特征在于，样品被放置在真空仓内，调节完样品的位置后，还包括密封真空仓，对真空仓进行抽真空的步骤。
5.根据权利要求4所述的X射线荧光光谱分析方法，其特征在于，真空仓进行抽真空后真空仓内部压力为5-50pa。
6.根据权利要求4所述的X射线荧光光谱分析方法，其特征在于，检测孔(4512)处还设置有mylar膜。
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