[发明专利]一种PZT陶瓷涂层的制备方法

权利要求书

1.一种PZT陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：包括如下步骤，

1)基体材料选用钢，加工成所需尺寸试样片，将试样片放入预先装有300ml丙酮的烧杯中，在超声波发生器中振荡30min后取出，烘干试样片后，用24目的棕刚玉进行喷砂处理；

2)将20-80g的PZT粉体分散于200ml～400ml的蒸馏水中，得到悬浮液A，将悬浮液A用超声波发生器超声震荡20～40min，然后磁力搅拌3～5h，悬浮液A中PZT粉体的浓度为100～200g/L；

3)向悬浮液A中加入40ml～80ml的硅溶胶，得到悬浮液B，将悬浮液B放入超声波发生器中超声30～60min，然后边加热边磁力搅拌3～5h，加热温度为50～60℃；

4)将高温电炉预先加热至200℃，并且保持200℃的温度，取出喷砂处理后的试样片置于200℃的电炉内，保温15～20min后取出，将加热的试样片浸入悬浮液B中，20～30s后取出浸渍后的试样片，并在超声波发生器中振荡1～2min；

5)将超声后的试样片继续置入200℃的高温电炉内，保温15～20min后取出，将加热的试样片浸入悬浮液B中，20～30s后取出浸渍后的试样片，并在超声波发生器中振荡1～2min，重复这个步骤直至达到所需的涂层厚度，即得到PZT陶瓷涂层试样。

2.根据权利要求1所述的一种PZT陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：步骤2)中，所述PZT的纯度≥99％，平均粒径为500nm。

3.根据权利要求1所述的一种PZT陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：步骤3)中，硅溶胶中SiO₂的固含量为30％-31％。

4.根据权利要求1所述的一种PZT陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤1)～5)中超声波发生器的功率为800-1200W。

5.根据权利要求1所述的一种PZT陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：步骤2)中，蒸馏水为300ml。

6.根据权利要求1所述的一种PZT陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：步骤3)中，加入的硅溶胶为50ml～70ml。

7.根据权利要求6所述的一种PZT陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：步骤3)中，加入的硅溶胶为60ml。

8.根据权利要求1所述的一种PZT陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：步骤1)中，试样片的尺寸为30mm×30mm×5mm。

9.根据权利要求1所述的一种PZT陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：步骤1)中，基体材料选用45号钢。