[发明专利]激光晶化设备和方法

说明书

本发明公开一种激光晶化设备和方法。该激光晶化方法包括激发密封容器中的气体介质以生成激光束；通过使所述激光束在分别面对所述密封容器的相对端部设置的高反射镜与低反射镜之间反射来放大所述激光束，其中第一透明窗和第二透明窗被固定至密封容器的相应端部并且输出放大后的激光束；以及将清洁镜设置在已透过所述第二透明窗的激光束的路径中。

相关申请的交叉引用

本申请要求2016年6月14日递交韩国知识产权局的韩国专利申请第10-2016-0073882号的优先权和权益，其全部内容通过引用合并于此。

技术领域

本公开的实施例总体上涉及激光晶化设备和方法。更具体地，本公开的实施例总体上涉及将非晶硅晶化为多晶硅的激光晶化设备和方法。

背景技术

诸如有机发光设备(OLED)或液晶显示器(LCD)的有源矩阵型显示设备的像素包括薄膜晶体管(TFT)，薄膜晶体管包括半导体层。半导体层通常由多晶硅制成。多晶硅具有高迁移率并且适合于有机发光设备基于电流控制发射层的亮度。

可以通过将激光束照射到非晶硅上并对其执行退火工艺来产生多晶硅，在此期间激光晶化设备被使用。激光晶化设备可以是气体激光设备，诸如准分子激光设备。激光晶化设备通过电子放电过程激发气体介质以生成激光束，通过谐振放大激光束并输出得到的激光束。

发明内容

本公开的实施例可以提供一种减少部件污染并且增长更换周期的激光晶化设备和方法。

示例性实施例提供了一种激光晶化设备，其包括密封容器、电极对、激光谐振部和清洁镜。密封容器充满气体介质并包括第一透明窗和第二透明窗。一对电极被安装在密封容器中并通过激发气体介质生成激光束。激光谐振部包括安装在第一透明窗外部的高反射镜以及安装在第二透明窗外部并且反射率低于高反射镜的反射率的低反射镜。清洁镜被提供至已透过第二透明窗的激光束的路径上的第一位置和与激光束的路径分离的第二位置中的一个，并且根据行进状态在第一位置与第二位置之间行进。

清洁镜在闲置状态下可以被提供在第一位置并且在运行状态下可以被提供在第二位置。

清洁镜可以被结合至移送器并且可以在第一位置与第二位置之间移动。

移送器可以包括驱动电机以及结合至驱动电机并通过驱动电机的操作而旋转的镜框，并且清洁镜可以被安装至镜框。

移送器可以包括驱动电机以及结合至驱动电机并通过驱动电机的操作而执行直线运动的镜框，并且清洁镜可以被安装至镜框。镜框可以产生与清洁镜分离的开口，并且开口在运行状态下可以被提供在第一位置。

低反射镜可以被结合至移送器，并且低反射镜和清洁镜中的一个可以被提供为面对第二透明窗。

移送器可以包括驱动电机以及具有圆板形状且被结合至驱动电机的旋转杆的镜框，并且低反射镜和清洁镜可以沿镜框的周向被安装在镜框中。旋转杆可以被结合至镜框的中心，并且低反射镜和清洁镜可以关于旋转杆对称设置。

移送器可以包括驱动电机以及被结合至驱动电机并根据驱动电机的操作而执行直线运动的镜框，并且低反射镜和清洁镜可以沿镜框的运动方向彼此平行地安装在镜框中。

示例性实施例提供一种激光晶化方法，该激光晶化方法包括激发密封容器中的气体介质以生成激光束；通过使激光束在分别面对密封容器的相对端部设置的高反射镜与低反射镜之间反射来放大激光束，并且输出放大后的激光束，其中第一透明窗和第二透明窗被固定至密封容器的相应端部；并且在已传播通过第二透明窗的激光束的路径中设置清洁镜。

输出放大后的激光束可以限定其中激光束被照射至照射目标的运行状态，并且设置清洁镜可以限定等待下一个执行的闲置状态。