[发明专利]一种TFT‑LCD显示用显影液在审

专利信息
申请号: 201710436615.2 申请日: 2017-06-12
公开(公告)号: CN107121898A 公开(公告)日: 2017-09-01
发明(设计)人: 白航空 申请(专利权)人: 合肥市惠科精密模具有限公司
主分类号: G03F7/32 分类号: G03F7/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230000 安徽省合肥市新站区九*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 tft lcd 显示 显影液
【说明书】:

技术领域

发明涉及TFT-LCD技术领域,具体涉及一种TFT-LCD显示用显影液。

背景技术

一般在液晶显示器、印刷电路板和集成电路等制备工艺中,为获得精细图形,常用光刻胶等放射线敏感组成物以涂布方式在基材上形成薄膜,经过曝光后,以碱性显影液显像,去除不要的涂膜部分,以获取良好的图形。

在这些平板印刷工序中,通过曝光把画有电路图案的掩膜转移到晶片上的光刻胶上,接着使上述光刻胶的曝光面与显影液接触,对于正性,曝光的部分溶解于显影液,而对于负性,未曝光区溶解于显影液。

显影工艺的第一个目的是未曝光的正性抗蚀剂膜应受显影剂腐蚀程度最小。实际的显影总是对未曝光的抗蚀剂有某种程度的腐蚀,但由于曝光区和未曝光区的溶解度不同,使得抗蚀剂工艺可行。实际上,选择范围更大的显影剂也花更长时间以完全显影图像。这样,选择显影剂时,就必须综合考虑不同的溶解度和产能。应选择一显影剂其产能满足要求且不引起过分的抗蚀剂变薄。另外,显影剂也应有足够的容度以使工艺能在生长环境中维持。

进行显影有三种主要方法:浸入、喷淋和搅动显影。

然而根据已知显影液的技术,感光性抗蚀剂在涂膜并预烤、曝光后,虽可用碱性显影液来溶解除去未曝光而不要的涂膜部份,但在显影时容易产生未显影部位粒子或未溶解物的残存,因此显影后比较难以形成精细的图像,从而无法满足市场的需求。

发明内容

本发明旨在提供了一种TFT-LCD显示用显影液。

本发明提供如下技术方案:

一种TFT-LCD显示用显影液,所述显影液由以下重量份数的组分构成:碱性化合物22-26份、非离子表面活性剂7-14份、渗透剂9-15份和去离子水42-54份。

所述碱性化合物为无机碱性化合物或有机碱性化合物;其中,无机碱性化合物为:碱金属的氢氧化物、碳酸氢盐、碳酸盐中的一种或几种;有机碱性化合物为:单甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、单乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、单乙醇二甲基胺中的一种或几种。

所述非离子表面活性剂选自椰子油脂肪酸单乙醇酰胺、椰子油脂肪酸二乙醇酰胺、蓖麻油聚氧乙烯醚和蓖麻油聚氧乙烯醚中的至少一种。

所述渗透剂为聚氧乙烯醚类渗透剂中的聚氧乙烷和高级脂肪醇的缩合物或磷酸酯。

所述去离子水是经过离子交换树脂过滤的水,其电阻至少是18MΩ。

所述所述去离子水中,总金属离子浓度不大于4000纳克/L,优选不大于500纳克/L,更优选不大于50纳克/L。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明的显影液克服了现有显影液在使用时不能同时兼顾显影性、消泡性、分散稳定性及操作温度范围窄的缺点,该显影液无需添加消泡剂,具有显影性能好、无残渣、操作温度范围宽、环境污染少等特点,在感光性树脂的显影制备工艺中,具有非常重要和广泛的应用;同时本发明的显影液具有显像性良好,避免残渣生成,具有低毒性、不具易燃性、以及管理容易、废液处理简便及成本低廉等优点。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

实施例1 一种TFT-LCD显示用显影液,所述显影液由以下重量份数的组分构成:碱性化合物22份、非离子表面活性剂7份、渗透剂9份和去离子水42份。

所述碱性化合物为无机碱性化合物或有机碱性化合物;其中,无机碱性化合物为:碱金属的氢氧化物、碳酸氢盐、碳酸盐中的一种或几种;有机碱性化合物为:单甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、单乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、单乙醇二甲基胺中的一种或几种。

所述非离子表面活性剂选自椰子油脂肪酸单乙醇酰胺、椰子油脂肪酸二乙醇酰胺、蓖麻油聚氧乙烯醚和蓖麻油聚氧乙烯醚中的至少一种。

所述渗透剂为聚氧乙烯醚类渗透剂中的聚氧乙烷和高级脂肪醇的缩合物或磷酸酯。

所述去离子水是经过离子交换树脂过滤的水,其电阻至少是18MΩ。

所述去离子水中,总金属离子浓度不大于4000纳克/L,优选不大于500纳克/L,更优选不大于50纳克/L。

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