[发明专利]指纹成像模组和电子设备

说明书

一种指纹成像模组和电子设备，所述指纹成像模组包括：光源；感测面，与待成像件接触，并使所述光源产生的入射光形成携带有指纹信息的反射光；环境光透射所述待成像件形成干扰光；图像传感器，对所述干扰光和所述反射光进行光电转换，并根据所述反射光获得指纹图像；滤光层，位于所述感测面和所述图像传感器之间，用于滤除至少部分所述干扰光。所述滤光层的设置能够兼顾集成度和信噪比的改善，能够有效提高所述指纹成像模组的性能。

技术领域

本发明涉及指纹成像领域，特别涉及一种指纹成像模组和电子设备。

背景技术

指纹识别技术通过指纹成像传感器采集到人体的指纹图像，然后与指纹识别系统里已有指纹成像信息进行比对，以实现身份识别。由于使用的方便性，以及人体指纹的唯一性，指纹识别技术已经大量应用于各个领域，比如：公安局、海关等安检领域，楼宇的门禁系统，以及个人电脑和手机等消费品领域等等。

指纹识别技术中所采用成像模组的成像方式有光学式、电容式、超声波式等多种技术。其中一种是通过光学成像模组采集人体的指纹图像。光学式指纹成像模组的工作原理：人的手指按压在光学式指纹成像模组的保护盖板上时，光源发出的光形成入射光；入射光透过图像传感器(Sensor)和保护盖板后到投射到保护盖板与手指的界面，在手指和保护盖板相接触的位置处发生反射和折射；通过图像传感器采集所述反射光，将所述反射光的光信号转换为电信号，处理后即可得到手指的指纹图像。

但是现有技术的指纹成像模组只能在适宜的光照条件下采集指纹图像，当环境光过强时，现有指纹成像模组所获得指纹图像质量较差，甚至无法获得指纹图像。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种指纹成像模组和电子设备，以实现强环境光条件下的指纹图像采集。

为解决上述问题，本发明提供一种指纹成像模组，包括：

光源；感测面，与待成像件接触，并使所述光源产生的入射光形成携带有指纹信息的反射光；环境光透射所述待成像件形成干扰光；图像传感器，对所述干扰光和所述反射光进行光电转换，并根据所述反射光获得指纹图像；滤光层，位于所述感测面和所述图像传感器之间，用于滤除至少部分所述干扰光。

可选的，所述滤光层的厚度在50nm到15000nm范围内。

可选的，所述滤光层滤除光波长的最小值大于所述入射光波长的最大值。

可选的，所述入射光波长范围在400nm到480nm范围内；所述滤光层所滤除光的波长范围在680nm到850nm范围内。

可选的，所述入射光波长范围在400nm到480nm范围内；所述滤光层所滤除光的波长范围在700nm到810nm范围内。

可选的，所述滤光层滤除红光或红外光；所述入射光为青蓝光。

可选的，所述滤光层滤除光波长的最小值大于所述入射光波长范围的最大值，或者所述滤光层滤除光波长的最大值小于所述入射光波长范围的最小值。

可选的，所述滤光层的材料包括油墨。

可选的，所述滤光层的材料还包括红外吸收剂。

可选的，所述滤光层为叠层镀膜。

可选的，所述滤光层包括交替设置的氧化硅层和氧化钛层。

可选的，所述滤光层中氧化硅层层数和氧化钛层层数之和在5到60范围内。

可选的，所述氧化硅层的厚度在8nm到200nm范围内。所述氧化钛层的厚度在8nm到200nm范围内。

可选的，所述滤光层通过丝印、喷涂或镀膜的方式形成。

可选的，所述图像传感器的光谱范围为小于或等于810nm。