[发明专利]一种单层自组装金纳米颗粒/二硫化钼复合膜及其制备方法

权利要求书

1.一种单层自组装金纳米颗粒/二硫化钼复合膜，包括金纳米颗粒自组装单层薄膜、二硫化钼单层薄膜，其特征在于，所述金纳米颗粒自组装单层薄膜厚度为6nm，铺覆在二硫化钼单层薄膜表面，两种薄膜材料依靠范德华力构筑得到单层自组装金纳米颗粒/二硫化钼复合膜，并与基底材料构成整体。

2.根据权利要求1所述的一种单层自组装金纳米颗粒/二硫化钼复合膜，其特征在于，所述基底材料采用300nm厚氧化层硅片。

3.一种单层自组装金纳米颗粒/二硫化钼复合膜的制备方法，包括以下步骤：

（1）获得金纳米颗粒自组装单层薄膜：

（1a）利用一步一相法制备金纳米颗粒，金纳米颗粒的平均粒径为6nm，尺寸偏差约为6%；

（1b）采用乙二醇作面下相，在不相混的液体表面上上挥发微量有机溶剂，实现金纳米颗粒的自组装，得到可移植的，厚度为6nm的金纳米颗粒单层薄膜；

（2）获得二硫化钼单层薄膜：

利用化学气相沉积法在基底材料上生长得到二硫化钼单层薄膜；

（3）制备单层自组装金纳米颗粒/二硫化钼复合膜：

以二硫化钼单层薄膜和基底材料为整体，将金纳米颗粒单层薄膜进行转移并铺覆至二硫化钼单层薄膜表面，得到单层自组装金纳米颗粒/二硫化钼复合膜。

4.根据权利要求3所述的一种单层自组装金纳米颗粒/二硫化钼复合膜的制备方法，其特征在于，步骤（1b）中所述的金纳米颗粒单层薄膜中纳米颗粒个体形貌为球形，金纳米颗粒单层薄膜的厚度为6nm。

5. 根据权利要求3所述的一种单层自组装金纳米颗粒/二硫化钼复合膜的制备方法，其特征在于，步骤（2）中所述的二硫化钼单层薄膜厚度为6.5 Å。