[发明专利]韦布尔杂波环境下基于偏斜度和均值比的恒虚警检测方法有效

专利信息
申请号: 201710387640.6 申请日: 2017-05-27
公开(公告)号: CN107271973B 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 张仁李;张昕;盛卫星;韩玉兵;马晓峰 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40;G01S7/41;G01S13/04
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 薛云燕
地址: 210094 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 布尔 环境 基于 偏斜 均值 恒虚警 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种韦布尔杂波环境下基于偏斜度和均值比的恒虚警检测方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1,将雷达匹配滤波器或者动目标检测器输出结果送入包络检波器,对包络检波器的输出进行恒虚警检测,进行恒虚警检测的参考滑窗共有N个参考单元,分为前沿滑窗A和后沿滑窗B,各有N/2个服从韦布尔分布的参考单元,分别为XA,1,…,XA,N/2和XB,1,…,XB,N/2

步骤2,先计算前、后沿滑窗的统计均值比MR,再对参考单元数据进行对数变换,分别计算前、后沿滑窗的偏斜度SK:将SK与偏斜度门限TSK进行比较,判断前、后沿滑窗是否含有干扰目标;将MR与均值比门限KMR进行比较,判断前、后沿滑窗是否来自同一分布;

步骤3,根据步骤2判断结果,选择合适的参考滑窗,对参考单元数据采用Log-t CFAR检测方法计算检测门限,判断检测单元是否存在目标。

2.根据权利要求1所述的韦布尔杂波环境下基于偏斜度和均值比的恒虚警检测方法,其特征在于,步骤2所述先计算前、后沿滑窗的统计均值比MR,再对参考单元数据进行对数变换,分别计算前、后沿滑窗的偏斜度SK:将SK与偏斜度门限TSK进行比较,判断前、后沿滑窗是否含有干扰目标;将MR与均值比门限KMR进行比较,判断前、后沿滑窗是否来自同一分布,具体如下:

步骤2-1,将参考单元序列XA,1,…,XA,N/2和XB,1,…,XB,N/2,分别进行对数变换,得到序列YA,1,…,YA,N/2和YB,1,…,YB,N/2,前沿滑窗A的偏斜度SK计算如下:

其中,SKA为前沿滑窗A的偏斜度,i为参考单元序列标号,

同理后沿滑窗B偏斜度SK计算如下:

其中,SKB为后沿滑窗B的偏斜度,

步骤2-2,计算统计均值比MR,计算公式如下:

其中,和分别是前沿滑窗A和后沿滑窗B对数变换前的均值;

步骤2-3,确定偏斜度门限TSK和均值比门限KMR,TSK和KMR分别由如下公式确定:

α0=P[SK>TSK|均匀环境]

β0=1-P[1/KMR≤MR≤KMR|均匀环境]

其中,α0为滑窗为均匀环境却被判断为存在干扰目标的概率,β0为前后沿滑窗来自相同分布却被判断为来自不同分布的概率;

步骤2-4,将SK与偏斜度门限TSK进行比较,判断前、后沿滑窗是否含有干扰目标,判别公式如下:

将MR与均值比门限KMR进行比较,判断前、后沿滑窗是否来自同一分布,判别公式如下:

MR<KMR-1或。

3.根据权利要求1所述的韦布尔杂波环境下基于偏斜度和均值比的恒虚警检测方法,其特征在于,步骤3所述根据步骤2判断结果,选择合适的参考滑窗,对参考单元数据采用Log-t CFAR检测方法计算检测门限,判断检测单元是否存在目标,具体如下:

步骤3-1,参考滑窗选择方法如表1所示:

表1

步骤3-2,根据参考滑窗的选择结果,对滑窗中的参考单元数据采用Log-t CFAR检测方法计算检测门限,不同情况下检测门限S的计算公式如表2所示:

表2

其中,m'AB,σ'AB分别为全滑窗AB参考单元的均值和方差,计算公式如下

上式中,Yi为对数变换后的前、后沿滑窗的序列之和YA,1,…,YA,N/2,YB,1,…,YB,N/2,N为全滑窗AB参考单元数目;

同理,

TN和TN/2为门限因子;

步骤3-3,将检测单元数据D与检测门限S进行比较,判断检测单元是否存在目标,具体如下:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京理工大学,未经南京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710387640.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top