[发明专利]一种X射线荧光分析装置及其分析检测方法

权利要求书

1.一种适用于微区全反射的X射线荧光分析装置，其特征在于，包括 X光源，采用50微米微焦斑铜靶光源用于发射X射线； 调控装置，用于聚焦X射线形成焦斑； 准直器，设置在X光源和调控装置之间； 样品架，用于放置待测样品，并将待测样品设置在焦斑处； 荧光探测装置，用于接收待测样品与X射线产生的二次荧光信号；所述调控装置的入口端与准直器对准，准直器的直径小于调控装置的入口端面的直径； 所述调控装置为椭球型单毛细管X光透镜，椭球度为0～1％，所述入口端面和出口端面的直径比为100:60；入口焦距为250mm，轴向长度为249.5mm；

所述调控装置的中心线与样品架平面之间的夹角小于X射线与样品架的全反射临界角θc，还有两个狭缝垂直设置于椭球管入射端面之前，所述狭缝宽度大于椭球管入射端面内直径小于外直径。

2.根据权利要求1所述的一种适用于微区全反射的X射线荧光分析装置，其特征在于，所述调控装置为硅酸盐玻璃或铅玻璃材质。

3.根据权利要求1所述的一种适用于微区全反射的X射线荧光分析装置，其特征在于，所述入口端面的直径为50～2000μm，出口端面的直径为4～50μm。

4.根据权利要求1所述的一种适用于微区全反射的X射线荧光分析装置，其特征在于，所述X光源的焦斑置于调控装置的前焦斑处，待检测样品置于调控装置的后焦斑处。

5.一种微区全反射X射线荧光分析方法，其特征在于，通过权利要求1～4任意一项所述适用于微区全反射的X射线荧光分析装置来进行分析检测。