[发明专利]红敏光致聚合物材料、制备方法及应用

说明书

本发明涉及一种红敏光致聚合物材料、制备方法及其应用，其中聚合物材料包括光敏剂和光引发剂，光敏剂包括亚甲基蓝、孔雀石绿或天青I；所述光引发剂结构为：其中取代基R为苯基或者C₁‑C₄烷基。基于本发明光引发剂的光致聚合物材料，具有良好的量子产率和饱和曝光量，显示了优异的光引发特性。

技术领域

本申请涉及一种聚合物材料，进一步涉及一种红敏光致聚合物材料，以及光致聚合物的制备方法，还涉及聚合物材料的应用。

背景技术

光致聚合物材料作为一种新型全息材料，具有高衍射效率、高折射率调制度、不需要湿法处理、环境稳定性强等特点，受到国内外研究者广泛关注，可应用于大容量数据存储、真三维全息地图、LCD显示器、高端防伪商标等领域。光致聚合物材料在两束激光干涉光曝光下，光引发体系吸收光子能量，释放活性自由基，引发单体聚合反应，在材料内部形成三维全息光栅，从而实现信息记录。光致聚合物记录材料主要成分包括成膜剂、单体、交联剂、光引发体系，由于红光光子能量远低于蓝光和绿光，导致红敏光致聚合物材料感光性较低，红敏光致聚合物材料低感光性严重降低了信息记录速度，增加生产成本。且现有的光引发剂感光性较低，限制了红敏光致聚合物材料的应用。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种红敏型光致聚合物全息材料、聚合物制备方法及应用，以解决以上所述的至少一项技术问题。

根据本发明的一方面，提供一种红敏光致聚合物材料，包括光敏剂和光引发剂，其中：

所述光敏剂包括亚甲基蓝、孔雀石绿或天青I；

所述光引发剂结构为：

其中取代基R为苯基或者C₁-C₄烷基。

进一步的，以摩尔比计，所述光敏剂与所述光引发剂的比为1∶20～1∶80。

其中光敏剂为亚甲基蓝、孔雀石绿、天青I中的一种

进一步的，以摩尔比计，所述光敏剂与所述的光引发剂的比值为1∶40∶～1∶60。

进一步的，所述光敏剂为亚甲基蓝，所述光引发剂中取代基R为甲基。

根据本发明的另一方面，提供一种光致聚合物的制备方法，包括将光敏剂加入含光引发剂的溶液中进行混合的步骤，其中光敏剂为亚甲基蓝、孔雀石绿或天青I；

所述光引发剂结构为：

其中取代基R为苯基或者C₁-C₄烷基。

进一步的，所述步骤在暗室、绿色安全灯环境下实施。

进一步的，对于光敏剂的添加量，满足条件：以摩尔比计，所述光敏剂与所述光引发剂的比值为1∶20～1∶80。

进一步的，以摩尔比计，所述光敏剂与所述的光引发剂的比值为1∶40～1∶60。

进一步的，所述光敏剂为亚甲基蓝，所述光引发剂中取代基R为甲基。

根据本发明的再一方面，提供一种应用上述的光致聚合物材料在数据存储、三维全息地图、显示器、防伪商标中的应用。

本发明技术方案基于含烷基或苯基的二乙醇胺为光引发剂光致聚合物材料具有较大的量子产率和更低的饱和曝光量，显示了优异的光引发特性。

附图说明

图1为实施例1、2、3与对比例1和2的红敏光致聚合物最大量子产率与光引发剂种类关系。