[发明专利]空间光调制器及显示装置

权利要求书

1.一种空间光调制器，其特征在于，包括相对设置的阵列基板和上基板，位于所述阵列基板与所述上基板之间的液晶层和隔离柱；其中，所述阵列基板上设置有呈矩阵排列的多个像素电极，覆盖所述像素电极的平坦化层，位于所述平坦化层上且与各所述像素电极分别一一对应的反射电极，且各所述反射电极通过贯穿所述平坦化层的过孔与对应的所述像素电极电连接；

以相邻的2×2个像素电极为一像素组；

所述像素组中每一个所述像素电极对应一个过孔，所述像素组对应的四个过孔，各所述过孔位于靠近所述像素组的中心的区域；所述隔离柱位于所述四个过孔之间的平坦化层上；或者，所述像素组中的四个所述像素电极对应一个过孔，所述过孔位于靠近所述像素组的中心的区域且覆盖所述像素组的中心；所述隔离柱位于所述过孔内，且所述反射电极通过贯穿所述过孔的部分区域与对应的所述像素电极电连接。

2.如权利要求1所述的空间光调制器，其特征在于，所述隔离柱在所述阵列基板的正投影与所述像素组对应的所述四个过孔在所述阵列基板的正投影部分重叠。

3.如权利要求1所述的空间光调制器，其特征在于，所述像素组对应的所述四个过孔中，任意相邻两个所述过孔呈轴对称设置。

4.如权利要求3所述的空间光调制器，其特征在于，所述过孔的开口形状为矩形或三角形。

5.如权利要求3所述的空间光调制器，其特征在于，所述过孔的开口形状为将靠近所述隔离柱的一角设置为圆角的矩形。

6.如权利要求1所述的空间光调制器，其特征在于，当所述像素组中的四个所述像素电极对应一个过孔时，所述过孔的侧壁与位于所述过孔内的所述隔离柱之间的距离大于所述反射电极的厚度。

7.如权利要求6所述的空间光调制器，其特征在于，位于所述过孔内的所述隔离柱与贯穿所述过孔的反射电极之间具有预设距离。

8.如权利要求1所述的空间光调制器，其特征在于，当所述像素组中的四个所述像素电极对应一个过孔时，所述过孔的开口形状为中心对称图形。

9.如权利要求1所述的空间光调制器，其特征在于，当所述像素组中的四个所述像素电极对应一个过孔时，所述过孔的开口形状与所述隔离柱在所述阵列基板上的正投影的形状相似。

10.如权利要求1-9任一项所述的空间光调制器，其特征在于，所述隔离柱在所述阵列基板的正投影的形状为中心对称图形。

11.如权利要求1-9任一项所述的空间光调制器，其特征在于，还包括位于所述隔离柱与所述上基板之间的黑矩阵层，且所述黑矩阵层在所述阵列基板的正投影覆盖所述隔离柱和所述过孔在所述阵列基板上的正投影。

12.如权利要求11所述的空间光调制器，其特征在于，所述隔离柱固定于所述黑矩阵层面向所述液晶层的一侧。

13.如权利要求12所述的空间光调制器，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板、位于所述衬底基板上且与各所述像素电极对应的薄膜晶体管和覆盖所述薄膜晶体管的绝缘层；所述像素电极通过贯穿所述绝缘层的过孔与对应的所述薄膜晶体管电连接。

14.如权利要求13所述的空间光调制器，其特征在于，薄膜晶体管包括依次位于所述衬底基板上的沟道层、栅极绝缘层、栅电极、层间介质层和源漏电极；其中，所述源漏电极通过贯穿所述层间介质层和所述栅极绝缘层之间的过孔与所述沟道层电连接，所述像素电极通过贯穿所述绝缘层的过孔与所述源漏电极中的漏电极电连接。

15.如权利要求13所述的空间光调制器，其特征在于，还包括位于所述黑矩阵层与所述隔离柱之间的第一公共电极。