[发明专利]配合曲面的基准面确定方法

权利要求书

1.一种配合曲面的基准面确定方法，其特征在于，所述基准面确定方法包括：

模拟确定步骤，通过模拟测量面差值确定第一配合曲面(1)和第二配合曲面(2)中的模拟基准面，

实测选定步骤，通过实物测量面差值确定第一配合曲面(1)和第二配合曲面(2)中的选定基准面，

当所述模拟基准面与所述选定基准面为不同的配合曲面，模拟平移所述第一配合曲面(1)或所述第二配合曲面(2)并重新进行所述模拟确定步骤和所述实测选定步骤，当所述模拟基准面与所述选定基准面为同一配合曲面，确定所述模拟基准面或所述选定基准面为目标基准面。

2.根据权利要求1所述的基准面确定方法，其特征在于，所述模拟确定步骤包括在三维软件中创建同时截取所述第一配合曲面(1)和所述第二配合曲面(2)的剖面(3)，所述剖面(3)与第一配合曲面(1)和第二配合曲面(2)的配合间隙相垂直，所述模拟测量面差值在所述剖面(3)中获取。

3.根据权利要求2所述的基准面确定方法，其特征在于，所述模拟确定步骤包括：在所述剖面(3)中，以第一配合曲面(1)为基准，测量第一配合曲面(1)与第二配合曲面(2)的第一面差测量值(h₁)，以第二配合曲面(2)为基准，测量第一配合曲面(1)与第二配合曲面(2)的第二面差测量值(h₂)，

计算所述第一面差测量值(h₁)与面差预设值(h)的第一差值(Δh₁)和所述第二面差测量值(h₂)与面差预设值(h)的第二差值(Δh₂)，当所述第一差值(Δh₁)的绝对值小于或等于所述第二差值(Δh₂)的绝对值，确定第一配合曲面(1)为模拟基准面，当所述第一差值(Δh₁)的绝对值大于所述第二差值(Δh₂)的绝对值，确定第二配合曲面(2)为模拟基准面。

4.根据权利要求2所述的基准面确定方法，其特征在于，所述模拟确定步骤包括：创建多个所述剖面(3)，在每个所述剖面(3)中，以第一配合曲面(1)为基准，测量第一配合曲面(1)与第二配合曲面(2)之间的第一面差测量值(h₁)，以第二配合曲面(2)为基准，测量第一配合曲面(1)与第二配合曲面(2)之间的第二面差测量值(h₂)，

计算多个所述第一面差测量值(h₁)的第一面差平均值(h_1v)与面差预设值(h)的第一平均差值(Δh_1v)，计算多个所述第二面差测量值(h₂)的第二面差平均值(h_2v)与面差预设值(h)的第二平均差值(Δh_2v)，当所述第一平均差值(Δh_1v)的绝对值小于或等于所述第二平均差值(Δh_2v)的绝对值，确定第一配合曲面(1)为模拟基准面，当所述第一平均差值(Δh_1v)的绝对值大于所述第二平均差值(Δh_2v)的绝对值，确定第二配合曲面(2)为模拟基准面。

5.根据权利要求3或4所述的基准面确定方法，其特征在于，测量所述第一面差测量值(h₁)包括：

选取所述第一配合曲面(1)的R角的切点为第一切点(a1)，选取所述第一配合曲面(1)上与所述第一切点(a1)相距第一长度的第一基点(b1)，

通过第一切点(a1)和第一基点(b1)生成延伸到所述第二配合曲面(2)的第一直线(c1)，

选取所述第二配合曲面(2)的R角的切点为第二切点(a2)，所述第二切点(a2)到所述第一直线(c1)的垂直距离为所述第一面差测量值(h₁)。