[发明专利]触摸屏与电子设备

说明书

本申请提供了一种触摸屏与电子设备。该触摸屏包括依次设置的显示屏、感应膜与盖板，感应膜包括基材、感应层与边框导线，其中，基材包括基底与设置在基底表面上的折射率匹配层，折射率匹配层的厚度为5～50nm；感应层设置在折射率匹配层的远离基底的表面上；边框导线设置在感应层的远离折射率匹配层的表面上。将折射率匹配层的厚度设置在5～50nm之间，使得基材的粗糙度在5～50nm之间，该粗糙度范围不仅能够保证基材与其上的结构层之间具有较强的附着力，当触摸屏中的边框导线包括铜膜时，较大的粗糙度还能使得铜膜内应力降低，进而使得铜膜与感应层的附着力较大，提高了产品的良率；并且，该粗糙度范围还能保证较低的蚀刻色差。

技术领域

本申请涉及触摸屏领域，具体而言，涉及一种触摸屏与电子设备。

背景技术

触摸屏广泛应用于手机、电子书、平板电脑与笔记本电脑等电子产品上，用来感应手指或触控笔在屏幕上的位置及变化，将位置和动作信息并反馈给处理器，其中，电容式触摸屏(简称电容屏)是触摸屏中最常用的一种。

电容式触摸屏是利用人体作为导体，当用户的手指触摸在电容式触摸屏上时，由于人体的手指和电容式触摸屏表面形成以一个耦合电容(对于高频电流来说，电容可以视为导体)，于是手指从电容式触摸屏表面的触控点吸走一个很小的电流，这个电流分为四部分并从电容式触摸屏的四角上的电极中流出。流经这四个电极的电流与手指到四角的距离成正比，触摸屏的控制器对这四个电流比例进行精确计算，得出触摸点的位置。

常见的电容屏的结构是GF或GFF结构，G表示玻璃盖板)，F表示ITO薄膜(感应膜，包括边框导线)，如图1所示，GF结构包括玻璃面板01与ITO薄膜03(图中未示出边框导线，示出了用于粘结玻璃面板01与ITO薄膜03的OCA胶层02)，如图2所示，GFF结构包括一个玻璃面板01与两个ITO薄膜03(图中未示出边框导线，示出了用于粘结玻璃面板01与ITO薄膜03的OCA胶层02)。形成这些电容屏的边框导线的常见工艺有两种，一种工艺是在ITO薄膜边缘印刷银浆，并通过激光蚀刻形成信号通路；另一种是在ITO薄膜溅镀成膜的同时，在ITO薄膜上再镀层铜膜和/或Cu合金层，用铜膜及合金层代替昂贵的银浆层，降低成本，且因为铜膜及合金层的电阻率更低，布线区面积可以减少，最终用在所谓的“窄边框”的智能手机或平板上。

目前，一些公司已提出基于ITO+铜膜的发明专利，如公开号为CN103279250和公开号为CN103345337的专利文件。使用这些专利的产品的一个致命缺陷在于基体的附着力较差，导致后续设置的铜膜的附着力差，在产品实际生产过程中(蚀刻和贴合)铜膜容易脱落，导致良率下降。这主要是因为基体的附着力较差以至于市场上使用窄边框的触摸屏价格偏高，而且阻碍了该产品大规模的推广。

发明内容

本申请的主要目的在于提供一种触摸屏与电子设备，以解决现有技术中的基体的附着力较差的问题。

为了实现上述目的，根据本申请的一个方面，提供了一种触摸屏，该触摸屏包括依次设置的显示屏、感应膜与盖板，上述感应膜包括：基材，包括基底与设置在上述基底表面上的折射率匹配层，上述折射率匹配层的厚度为5～50nm；感应层，设置在上述折射率匹配层的远离上述基底的表面上；边框导线，设置在上述感应层的远离上述折射率匹配层的表面上。

进一步地，上述折射率匹配层的厚度为10～40nm，优选上述折射率匹配层的厚度为30nm。

进一步地，上述边框导线包括：铜层，设置在上述感应层的远离上述基材的表面上；铜镍合金层，设置在上述铜层的远离上述感应层的表面上。

进一步地，上述铜镍合金层中，镍的重量百分比为30～80％，优选上述镍的重量百分比为60～80％，进一步优选上述镍的重量百分比为70％。

进一步地，上述铜层的厚度为100～300nm。